Silicon Carbide Wafer Boat

Di belakang setiap proses suhu tinggi di manufaktur wafer terletak pemain yang diam namun penting: kapal wafer. Sebagai pembawa inti yang secara langsung menghubungi wafer silikon selama pemrosesan wafer, material, stabilitas, dan kebersihan secara langsung terkait dengan hasil chip akhir dan stabilitas proses. Di antara berbagai bahan operator,silikon karbida (sic)Kapal secara bertahap menggantikan solusi kuarsa tradisional, menjadi solusi yang disukai untuk proses lanjutan dan peralatan kelas atas.

Mengapa kapal wafer sic?

Dengan kemajuan node proses di bawah 7nm dan perluasan jendela proses suhu tinggi, kapal wafer kuarsa tradisional semakin berjuang dalam hal stabilitas termal, kontrol partikel, dan pengelolaan umur.

Perahu wafer silikon karbida, bagaimanapun, secara bertahap mendapatkan keunggulan karena keunggulan berikut:

1. Stabil pada suhu tinggi:

Mereka menawarkan suhu operasi jangka panjang 1350-1600 ° C, dengan mudah menangani proses arus utama seperti CVD, difusi, dan anil. Bahkan paparan singkat terhadap suhu 1800 ° C menunjukkan tidak ada pelunakan atau deformasi, membuatnya cocok untuk peralatan kelas atas seperti tungku silikon silikon kristal tunggal.

2. Ekspansi yang lebih rendah dan stabilitas guncangan termal yang tinggi:

Dengan koefisien ekspansi termal yang rendah, mereka dapat menahan peningkatan suhu yang cepat dan berkurang, meminimalkan retak struktural yang disebabkan oleh tegangan termal. Mereka mempertahankan morfologi dan kinerja yang sangat baik di atmosfer suhu tinggi, kompleks (seperti hidrogen, nitrogen, amonia, dan fluorida).

3. Permukaan Clean dan Kontaminasi Sangat Rendah:

Kemurnian material tinggi dengan kotoran logam minimal. Kekasaran permukaan yang rendah, mencegah kontaminasi sekunder wafer silikon; Kontrol kekasaran permukaan yang sangat baik, dengan RA di bawah 0,1μm, menekan penumpahan partikel dan memenuhi persyaratan ruang bersih dari proses lanjutan;

4. Molding one-piece, Struktur perahu wafer mesin presisi dapat secara langsung dibentuk melalui tanpa jamurPencetakan 3D, menghilangkan kebutuhan akan cetakan, secara signifikan meningkatkan efisiensi kustomisasi; Dikombinasikan dengan pemesinan lima sumbu dan teknologi pemotongan kawat, gigi perahu bebas duri, mencegah goresan pada wafer dan memastikan penanganan otomatis yang lancar;

5. Kekuatan tinggi dan umur panjang: 

Sebuah kapal tunggal menawarkan kekuatan penahan beban tinggi dan secara bersamaan dapat mendukung lusinan wafer 12 inci. Dibandingkan dengan kapal kuarsa tradisional, umur rata-rata kapal adalah 5-10 kali lebih lama, mengurangi frekuensi pergantian peralatan dan total biaya kepemilikan.

Skenario Aplikasi

Kemampuan beradaptasi yang luasperahu wafer silikon karbidaMemperluas aplikasi mereka di luar bidang semikonduktor ke berbagai skenario proses suhu tinggi, termasuk bahan energi baru, manufaktur LED, dan penelitian energi nuklir.

Industri semikonduktor

Ini cocok untuk proses utama seperti oksidasi, difusi, deposisi CVD, dan implantasi ion, menjadikannya pembawa suhu tinggi yang sangat diperlukan untuk jalur proses sub-7nm.

Industri fotovoltaik

Dalam teknologi baterai yang muncul seperti Topcon dan HJT, kapal wafer digunakan dalam proses tungku suhu tinggi seperti LPCVD dan anil, membantu meningkatkan efisiensi energi dan tingkat konversi.

Semikonduktor generasi ketiga

Untuk proses pertumbuhan epitaxial GAN ​​dan SIC di LED, mereka mendukung substrat safir atau silikon karbida. Mereka menahan gas korosif seperti NH₃ dan HCl, mendukung pembuatan perangkat daya frekuensi tinggi.

Bahan Energi Baru & Penelitian Platform Suhu Tinggi

Mendukung reaksi sintering bahan katoda lithium baterai dan perlakuan panas bahan industri nuklir, menggabungkan ketahanan panas, ketahanan korosi, dan kebersihan.

Semicorex menawarkan kemurnian tinggiKapal Wafer SIC yang disesuaikan. Jika Anda memiliki pertanyaan atau memerlukan detail tambahan, jangan ragu untuk menghubungi kami.

Hubungi Telepon # +86-13567891907

Email: sales@semicorex.com