Susceptors barel adalah komponen penting yang digunakan dalam berbagai proses pembuatan semikonduktor, seperti LPE, MOCVD. Semicorex menerapkan silikon karbida kemurnian tinggi dalam lapisan tipis ke grafit menggunakan proses pengendapan uap kimia (CVD), yang menjadikan kelas semikonduktor mterial dengan stabilitas termal yang sangat baik, ketahanan kimia, dan ketahanan aus, menjadikannya ideal untuk digunakan di lingkungan tinggi. proses suhu.
â Grafit berlapis SiC dengan kemurnian tinggi
â Ketahanan panas dan ketahanan kimia yang unggul
â Keseragaman termal yang tinggi
â Ketahanan aus yang sangat baik
Semicorex CVD SiC Coated Barrel Susceptor adalah komponen yang dirancang dengan cermat dan disesuaikan untuk proses manufaktur semikonduktor tingkat lanjut, khususnya epitaksi. Produk kami memiliki keunggulan harga yang bagus dan mencakup sebagian besar pasar Eropa dan Amerika. Kami berharap dapat menjadi mitra jangka panjang Anda di Tiongkok.
Baca selengkapnyamengirimkan permintaanSemicorex Barrel Susceptor Silicon Carbide Coated Graphite adalah komponen khusus yang dirancang untuk digunakan dalam proses epitaksi, khususnya dalam membawa wafer. Hubungi kami hari ini untuk mempelajari lebih lanjut tentang bagaimana kami dapat membantu Anda dengan kebutuhan pemrosesan wafer semikonduktor Anda.
Baca selengkapnyamengirimkan permintaanSemicorex SiC Coated Barrel Susceptor for LPE Epitaxial Growth adalah produk berperforma tinggi yang dirancang untuk memberikan kinerja yang konsisten dan andal dalam jangka waktu lama. Profil termalnya yang rata, pola aliran gas laminar, dan pencegahan kontaminasi menjadikannya pilihan ideal untuk pertumbuhan lapisan epitaxial berkualitas tinggi pada chip wafer. Kemampuan penyesuaian dan efektivitas biaya menjadikannya produk yang sangat kompetitif di pasar.
Baca selengkapnyamengirimkan permintaanSemicorex Barrel Susceptor Epi System untuk LPE Epitaxy adalah produk berkualitas tinggi yang menawarkan daya rekat lapisan yang unggul, kemurnian tinggi, dan ketahanan oksidasi suhu tinggi. Profil termalnya yang rata, pola aliran gas laminar, dan pencegahan kontaminasi menjadikannya pilihan ideal untuk pertumbuhan lapisan epixial pada chip wafer. Efektivitas biaya dan kemampuan penyesuaiannya menjadikannya produk yang sangat kompetitif di pasar.
Baca selengkapnyamengirimkan permintaanSistem Reaktor Semicorex Liquid Phase Epitaxy (LPE) adalah produk inovatif yang menawarkan kinerja termal yang sangat baik, bahkan profil termal, dan daya rekat lapisan yang unggul. Kemurnian tinggi, ketahanan oksidasi suhu tinggi, dan ketahanan korosi menjadikannya pilihan ideal untuk digunakan dalam industri semikonduktor. Opsi yang dapat disesuaikan dan efektivitas biaya menjadikannya produk yang sangat kompetitif di pasar.
Baca selengkapnyamengirimkan permintaanSemicorex CVD Epitaxial Deposition In Barrel Reactor adalah produk yang sangat tahan lama dan andal untuk menumbuhkan lapisan epixial pada chip wafer. Ketahanan oksidasi suhu tinggi dan kemurnian tinggi membuatnya cocok untuk digunakan dalam industri semikonduktor. Profil termalnya yang rata, pola aliran gas laminar, dan pencegahan kontaminasi menjadikannya pilihan ideal untuk pertumbuhan lapisan epixial berkualitas tinggi.
Baca selengkapnyamengirimkan permintaan