Suseptor barel merupakan komponen penting yang digunakan dalam berbagai proses manufaktur semikonduktor, seperti LPE, MOCVD. Semicorex menerapkan silikon karbida kemurnian tinggi dalam lapisan tipis ke grafit menggunakan proses deposisi uap kimia (CVD), yang menjadikan bahan semikonduktor bermutu dengan stabilitas termal, ketahanan kimia, dan ketahanan aus yang sangat baik, menjadikannya ideal untuk digunakan dalam suhu tinggi. proses suhu.
● Grafit berlapis SiC dengan kemurnian tinggi
● Ketahanan panas dan ketahanan kimia yang unggul
● Keseragaman termal yang tinggi
● Ketahanan aus yang sangat baik
Semicorex CVD SiC Coated Barrel Susceptor adalah komponen yang dirancang dengan cermat dan disesuaikan untuk proses manufaktur semikonduktor tingkat lanjut, khususnya epitaksi. Produk kami memiliki keunggulan harga yang bagus dan mencakup sebagian besar pasar Eropa dan Amerika. Kami berharap dapat menjadi mitra jangka panjang Anda di Tiongkok.
Baca selengkapnyamengirimkan permintaanSemicorex Barrel Susceptor Silicon Carbide Coated Graphite adalah komponen khusus yang dirancang untuk digunakan dalam proses epitaksi, khususnya dalam membawa wafer. Hubungi kami hari ini untuk mempelajari lebih lanjut tentang bagaimana kami dapat membantu Anda dengan kebutuhan pemrosesan wafer semikonduktor Anda.
Baca selengkapnyamengirimkan permintaanSemicorex SiC Coated Barrel Susceptor untuk LPE Epitaxial Growth adalah produk berkinerja tinggi yang dirancang untuk memberikan kinerja yang konsisten dan andal dalam jangka waktu yang lama. Profil termalnya yang merata, pola aliran gas laminar, dan pencegahan kontaminasi menjadikannya pilihan ideal untuk pertumbuhan lapisan epitaksi berkualitas tinggi pada chip wafer. Kemampuan penyesuaian dan efektivitas biaya menjadikannya produk yang sangat kompetitif di pasar.
Baca selengkapnyamengirimkan permintaanSemicorex Barrel Susceptor Epi System adalah produk berkualitas tinggi yang menawarkan daya rekat lapisan unggul, kemurnian tinggi, dan ketahanan oksidasi suhu tinggi. Profil termalnya yang merata, pola aliran gas laminar, dan pencegahan kontaminasi menjadikannya pilihan ideal untuk pertumbuhan lapisan epiksial pada chip wafer. Efektivitas biaya dan kemampuan penyesuaiannya menjadikannya produk yang sangat kompetitif di pasar.
Baca selengkapnyamengirimkan permintaanSistem Reaktor Semicorex Liquid Phase Epitaxy (LPE) adalah produk inovatif yang menawarkan kinerja termal yang sangat baik, profil termal yang merata, dan daya rekat lapisan yang unggul. Kemurniannya yang tinggi, ketahanan oksidasi suhu tinggi, dan ketahanan terhadap korosi menjadikannya pilihan ideal untuk digunakan dalam industri semikonduktor. Pilihannya yang dapat disesuaikan dan efektivitas biaya menjadikannya produk yang sangat kompetitif di pasar.
Baca selengkapnyamengirimkan permintaanDeposisi Epitaxial Semicorex CVD Dalam Reaktor Barel adalah produk yang sangat tahan lama dan andal untuk menumbuhkan lapisan epiksial pada chip wafer. Ketahanan oksidasi suhu tinggi dan kemurnian tinggi membuatnya cocok untuk digunakan dalam industri semikonduktor. Profil termalnya yang merata, pola aliran gas laminar, dan pencegahan kontaminasi menjadikannya pilihan ideal untuk pertumbuhan lapisan epiksial berkualitas tinggi.
Baca selengkapnyamengirimkan permintaan