Grafit pelapis TaC dibuat dengan melapisi permukaan substrat grafit dengan kemurnian tinggi dengan lapisan halus tantalum karbida melalui proses Deposisi Uap Kimia (CVD) yang dipatenkan.
Tantalum karbida (TaC) merupakan senyawa yang terdiri dari tantalum dan karbon. Ia memiliki konduktivitas listrik logam dan titik leleh yang sangat tinggi, menjadikannya bahan keramik tahan api yang dikenal karena kekuatan, kekerasan, serta ketahanan terhadap panas dan aus. Titik leleh Tantalum Karbida mencapai puncaknya sekitar 3880°C tergantung pada kemurniannya dan merupakan salah satu titik leleh tertinggi di antara senyawa biner. Hal ini menjadikannya alternatif yang menarik ketika tuntutan suhu yang lebih tinggi melebihi kemampuan kinerja yang digunakan dalam proses epitaksi semikonduktor majemuk seperti MOCVD dan LPE.
Data material Lapisan Semicorex TaC
Proyek |
Parameter |
Kepadatan |
14,3 (gram/cm³) |
Emisivitas |
0.3 |
KTE (×10-6/K) |
6.3 |
Kekerasan (HK) |
2000 |
Resistansi (Ohm-cm) |
1×10-5 |
Stabilitas Termal |
<2500℃ |
Perubahan Dimensi Grafit |
-10~-20um (nilai referensi) |
Ketebalan Lapisan |
≥20um nilai tipikal (35um±10um) |
|
|
Di atas adalah nilai-nilai tipikal |
|
Cincin pemandu semikorex dengan cvd tantalum carbide coating adalah komponen yang sangat andal dan canggih untuk tungku pertumbuhan kristal tunggal SiC. Sifat material yang unggul, daya tahan, dan desain rekayasa presisi menjadikannya bagian penting dari proses pertumbuhan kristal. Dengan memilih cincin panduan berkualitas tinggi kami, produsen dapat mencapai stabilitas proses yang ditingkatkan, tingkat hasil yang lebih tinggi, dan kualitas kristal SIC yang unggul.*
Baca selengkapnyamengirimkan permintaanPemegang wafer pelapis CVD semikorex adalah komponen berkinerja tinggi dengan lapisan tantalum carbide, yang dirancang untuk presisi dan daya tahan dalam proses epikonduktor epikonduktor. Pilih Semicorex untuk solusi canggih yang andal yang meningkatkan efisiensi produksi Anda dan memastikan kualitas unggul di setiap aplikasi.*
Baca selengkapnyamengirimkan permintaanSemicorex TAC Coating Half-Moon Part adalah komponen berkinerja tinggi yang dirancang untuk digunakan dalam proses epitaxy SiC dalam tungku epitaxy LPE. Pilih Semicorex untuk kualitas yang tak tertandingi, rekayasa presisi, dan komitmen untuk memajukan keunggulan manufaktur semikonduktor.*
Baca selengkapnyamengirimkan permintaanSemicorex Halfmoon Part untuk LPE adalah komponen grafit berlapis TaC yang dirancang untuk digunakan dalam reaktor LPE, memainkan peran penting dalam proses epitaksi SiC. Pilih Semicorex karena komponennya yang berkualitas tinggi dan tahan lama yang menjamin kinerja dan keandalan optimal dalam lingkungan manufaktur semikonduktor yang menuntut.*
Baca selengkapnyamengirimkan permintaanPelat Semicorex TaC adalah komponen grafit berlapis TaC berkinerja tinggi yang dirancang untuk digunakan dalam proses pertumbuhan epitaksi SiC. Pilih Semicorex karena keahliannya dalam memproduksi material yang andal dan berkualitas tinggi yang mengoptimalkan kinerja dan umur panjang peralatan produksi semikonduktor Anda.*
Baca selengkapnyamengirimkan permintaanBagian Grafit Berlapis TaC Semicorex adalah komponen berkinerja tinggi yang dirancang untuk digunakan dalam pertumbuhan kristal SiC dan proses epitaksi, dilengkapi lapisan Tantalum Karbida tahan lama yang meningkatkan stabilitas termal dan ketahanan kimia. Pilih Semicorex karena solusi inovatif kami, kualitas produk unggul, dan keahlian dalam menyediakan komponen yang andal dan tahan lama yang disesuaikan untuk memenuhi tuntutan kebutuhan industri semikonduktor.*
Baca selengkapnyamengirimkan permintaan