Grafit pelapis TaC dibuat dengan melapisi permukaan substrat grafit dengan kemurnian tinggi dengan lapisan halus tantalum karbida melalui proses Deposisi Uap Kimia (CVD) yang dipatenkan.
Tantalum karbida (TaC) merupakan senyawa yang terdiri dari tantalum dan karbon. Ia memiliki konduktivitas listrik logam dan titik leleh yang sangat tinggi, menjadikannya bahan keramik tahan api yang dikenal karena kekuatan, kekerasan, serta ketahanan terhadap panas dan aus. Titik leleh Tantalum Karbida mencapai puncaknya sekitar 3880°C tergantung pada kemurniannya dan merupakan salah satu titik leleh tertinggi di antara senyawa biner. Hal ini menjadikannya alternatif yang menarik ketika tuntutan suhu yang lebih tinggi melebihi kemampuan kinerja yang digunakan dalam proses epitaksi semikonduktor majemuk seperti MOCVD dan LPE.
Data material Lapisan Semicorex TaC
|
Proyek |
Parameter |
|
Kepadatan |
14,3 (gram/cm³) |
|
Emisivitas |
0.3 |
|
KTE (×10-6/K) |
6.3 |
|
Kekerasan (HK) |
2000 |
|
Resistansi (Ohm-cm) |
1×10-5 |
|
Stabilitas Termal |
<2500℃ |
|
Perubahan Dimensi Grafit |
-10~-20um (nilai referensi) |
|
Ketebalan Lapisan |
≥20um nilai tipikal (35um±10um) |
|
|
|
|
Di atas adalah nilai-nilai tipikal |
|
Komponen Dilapisi Semicorex TaC dalam Pertumbuhan Epitaxial adalah bagian mesin berharga yang terletak di saluran masuk udara dalam proses epitaxial dalam semikonduktor. Semicorex adalah perusahaan terkemuka yang berspesialisasi dalam teknologi pelapisan CVD TaC di Tiongkok, dan mengekspor produk ke seluruh dunia.*
Baca selengkapnyamengirimkan permintaanPemegang kristal benih berlapis TaC adalah komponen berkinerja tinggi yang dirancang khusus untuk lingkungan pertumbuhan bahan semikonduktor. Sebagai produsen terkemuka pemegang kristal benih berlapis TTaC, semicorex menawarkan solusi komponen inti yang efisien di bidang manufaktur semikonduktor kelas atas.
Baca selengkapnyamengirimkan permintaanPendukung Alas Lapisan Semicorex TaC adalah komponen penting yang dirancang untuk sistem pertumbuhan epitaksi, yang dirancang khusus untuk mendukung tiang reaktor dan mengoptimalkan distribusi aliran gas proses. Semicorex menghadirkan solusi berkinerja tinggi dan rekayasa presisi yang menggabungkan integritas struktural unggul, stabilitas termal, dan ketahanan terhadap bahan kimia—memastikan kinerja yang konsisten dan andal dalam aplikasi epitaksi tingkat lanjut.*
Baca selengkapnyamengirimkan permintaanSemicorex CVD TaC Coated Susceptor adalah solusi premium yang dirancang untuk proses epitaksi MOCVD, memberikan stabilitas termal, kemurnian, dan ketahanan korosi yang luar biasa dalam kondisi proses ekstrem. Semicorex berfokus pada teknologi pelapisan rekayasa presisi yang memastikan kualitas wafer yang konsisten, masa pakai komponen yang lebih lama, dan kinerja yang andal di setiap siklus produksi.*
Baca selengkapnyamengirimkan permintaanCrucible Berlapis TaC Semicorex adalah wadah berkinerja tinggi yang dirancang untuk aplikasi suhu ekstrem, cocok untuk peleburan logam dan proses semikonduktor tingkat lanjut. Memilih Semicorex berarti mendapatkan akses ke teknologi pelapisan mutakhir dan keahlian teknik yang memberikan kemurnian, daya tahan, dan stabilitas luar biasa di lingkungan yang paling menuntut.*
Baca selengkapnyamengirimkan permintaanPelat Planet Berlapis Semicorex TaC adalah komponen presisi tinggi yang dirancang untuk pertumbuhan epitaksi MOCVD, menampilkan gerakan planet dengan banyak kantong wafer dan kontrol aliran gas yang dioptimalkan. Memilih Semicorex berarti mengakses teknologi pelapisan canggih dan keahlian teknik yang memberikan ketahanan, kemurnian, dan stabilitas proses luar biasa untuk industri semikonduktor.*
Baca selengkapnyamengirimkan permintaan