Reaktor tungku semikonduktor adalah peralatan inti dalam proses pembuatan semikonduktor, terutama digunakan untuk proses penting seperti oksidasi termal, difusi, anil, dan pengendapan uap kimia. Sistem tungku tipikal (Tungku Difusi Horisontal/Vertikal) terutama terdiri dari komponen inti berikut: si......
Baca selengkapnyaAnil termal cepat (disingkat RTA atau RTP) adalah teknologi pemrosesan termal cepat dalam manufaktur semikonduktor. Prinsip intinya adalah memanaskan permukaan wafer dengan cepat menggunakan sumber panas radiasi intensitas tinggi (seperti lampu halogen, laser, lampu flash, dll.), memanaskan wafer ke......
Baca selengkapnyaIndustri semikonduktor generasi ketiga sedang mengalami ekspansi kapasitas yang pesat. Proses epitaksi silikon karbida (SiC) dan galium nitrida (GaN) terus berkembang menuju lingkungan pengoperasian bersuhu tinggi, bahan mentah dengan kemurnian sangat tinggi, dan perangkat chip mini. Namun demikian,......
Baca selengkapnyaDalam manufaktur semikonduktor, oksidasi melibatkan penempatan wafer di lingkungan bersuhu tinggi di mana oksigen mengalir melintasi permukaan wafer untuk membentuk lapisan oksida. Ini melindungi wafer dari kotoran kimia, mencegah arus bocor memasuki sirkuit, mencegah difusi selama implantasi ion, d......
Baca selengkapnyaSemicorex menyediakan Susceptor Wafer Grafit Berlapis TaC canggih yang dirancang untuk proses semikonduktor berat yang memerlukan stabilitas termal yang sangat baik, ketahanan terhadap bahan kimia, dan kinerja dukungan wafer yang presisi. Ketika produsen semikonduktor terus mengembangkan perangkat g......
Baca selengkapnyaCincin fokus adalah bagian annular presisi yang biasanya dipasang di sekitar chuck wafer peralatan pengetsaan plasma dan langsung terkena plasma berenergi tinggi selama proses pengetsaan. Fungsi intinya adalah bertindak sebagai bagian korban untuk menjamin hasil etsa yang seragam di seluruh permukaa......
Baca selengkapnya