Cina Grafit khusus Produsen, Pemasok, Pabrik

Grafit khusus adalah sejenis grafit buatan yang diproses. Ini adalah bahan penting yang sangat diperlukan dalam semua aspek semikonduktor dan proses pembuatan fotovoltaik, termasuk pertumbuhan kristal, implantasi ion, epitaxy, dll.

1. Pertumbuhan kristal silikon karbida (sic)

Silikon karbida, sebagai bahan semikonduktor generasi ketiga, banyak digunakan pada kendaraan energi baru, komunikasi 5G, dan bidang lainnya. Dalam proses pertumbuhan kristal SIC 6-inci dan 8 inci, grafit isostatik terutama digunakan untuk memproduksi komponen kunci berikut:

Graphite Crucible: Ini dapat digunakan untuk mensintesis bahan baku bubuk sic dan juga membantu pertumbuhan kristal pada suhu tinggi. Kemurniannya yang tinggi, resistensi suhu tinggi, dan ketahanan guncangan termal memastikan lingkungan pertumbuhan kristal yang stabil.

Graphite Heater: Ini memberikan distribusi panas yang seragam, memastikan pertumbuhan kristal SiC berkualitas tinggi.

Tabung isolasi: Ini mempertahankan keseragaman suhu dalam tungku pertumbuhan kristal dan mengurangi kehilangan panas.

2. Implantasi ion

Implantasi ion adalah proses utama dalam manufaktur semikonduktor. Grafit isostatik terutama digunakan untuk memproduksi komponen -komponen berikut dalam Imon Ion:

Getter Graphite: Ini menyerap ion pengotor dalam sinar ion, memastikan kemurnian ion.

Cincin pemfokusan grafit: Ini memfokuskan sinar ion, meningkatkan akurasi dan efisiensi implan ion. Baki substrat grafit: Digunakan untuk mendukung wafer silikon dan mempertahankan stabilitas dan konsistensi selama implantasi ion.

3. Proses Epitaxy

Proses epitaxy adalah langkah penting dalam pembuatan perangkat semikonduktor. Grafit yang ditekan secara isostatis terutama digunakan untuk memproduksi komponen -komponen berikut dalam tungku epitaxy:

Baki dan rentan grafit: Digunakan untuk mendukung wafer silikon, memberikan dukungan yang stabil dan konduksi panas yang seragam selama proses epitaxy.

4. Aplikasi manufaktur semikonduktor lainnya

Grafit yang ditekan secara isostatis juga banyak digunakan dalam aplikasi manufaktur semikonduktor berikut:

Proses etsa: Digunakan untuk memproduksi elektroda grafit dan komponen pelindung untuk etsa. Resistensi korosi dan kemurnian tinggi memastikan stabilitas dan presisi dalam proses etsa.

Chemical Vapor Deposition (CVD): Digunakan untuk memproduksi baki grafit dan pemanas dalam tungku CVD. Konduktivitas termal yang tinggi dan resistensi suhu tinggi memastikan deposisi film tipis yang seragam.

Pengujian Kemasan: Digunakan untuk memproduksi perlengkapan uji dan baki pembawa. Presisi tinggi dan kontaminasi rendah memastikan hasil tes yang akurat.

Keuntungan dari bagian grafit

Kemurnian Tinggi:

Menggunakan materi grafit yang ditekan secara isostatis dengan kemurnian tinggi dengan konten pengotor yang sangat rendah, ini memenuhi persyaratan kemurnian material yang ketat dari manufaktur semikonduktor. Tungku pemurnian perusahaan sendiri dapat memurnikan grafit di bawah 5ppm.

Presisi Tinggi:

Dengan peralatan pemrosesan yang canggih dan teknologi pemrosesan yang matang, ini memastikan bahwa akurasi dimensi produk dan bentuk dan bentuk -toleransi posisi mencapai tingkat mikron.

Kinerja Tinggi:

Produk ini memiliki ketahanan suhu tinggi yang sangat baik, ketahanan korosi, ketahanan radiasi, konduktivitas termal tinggi dan sifat lainnya, memenuhi berbagai kondisi kerja yang keras dari manufaktur semikonduktor.

Layanan khusus:

Desain produk dan layanan pemrosesan yang disesuaikan dapat disediakan sesuai dengan kebutuhan pelanggan untuk memenuhi kebutuhan berbagai skenario aplikasi.

Jenis Produk Grafit

(1) Grafit isostatik
Produk grafit isostatik diproduksi oleh penekan isostatik dingin. Dibandingkan dengan metode pembentukan lainnya, cawan yang dihasilkan oleh proses ini memiliki stabilitas yang sangat baik. Produk grafit yang diperlukan untuk kristal tunggal SiC berukuran besar, yang akan menyebabkan kemurnian yang tidak rata di permukaan dan di dalam produk grafit, yang tidak dapat memenuhi persyaratan penggunaan. Untuk memenuhi persyaratan pemurnian yang mendalam dari produk grafit berukuran besar yang diperlukan untuk kristal tunggal SiC, proses pemurnian pulsa termokimia suhu tinggi yang unik harus diadopsi untuk mencapai pemurnian yang dalam dan seragam dari produk grafit berukuran besar atau berbentuk khusus, sehingga kemurnian permukaan produk dan inti dapat memenuhi kebutuhan penggunaan.

(2) Grafit berpori
Grafit berpori adalah jenis grafit dengan porositas tinggi dan kepadatan rendah. Dalam proses pertumbuhan kristal SiC, grafit berpori memainkan peran penting dalam meningkatkan keseragaman transfer massa, mengurangi tingkat kejadian perubahan fase dan meningkatkan bentuk kristal.
Penggunaan grafit berpori meningkatkan keseragaman suhu dan suhu dari area bahan baku, meningkatkan perbedaan suhu aksial dalam wadah, dan juga memiliki efek tertentu pada melemahkan rekristalisasi permukaan bahan baku; Di ruang pertumbuhan, grafit berpori meningkatkan stabilitas aliran material selama proses pertumbuhan, meningkatkan rasio C/SI dari area pertumbuhan, membantu mengurangi probabilitas perubahan fase, dan pada saat yang sama, grafit berpori juga berperan dalam meningkatkan antarmuka kristal.

(3) Felt
Soft Felt dan Hard Felt keduanya memainkan peran bahan isolasi termal penting dalam pertumbuhan kristal SiC dan hubungan epitaxial.

(4) Foil grafit
Kertas grafit adalah bahan fungsional yang terbuat dari grafit serpihan karbon tinggi melalui perlakuan kimia dan penggulungan suhu tinggi. Ini memiliki konduktivitas termal yang tinggi, konduktivitas listrik, fleksibilitas, dan resistensi korosi.

(5) Bahan Komposit
Bidang termal karbon-karbon adalah salah satu bahan habis pakai inti dalam produksi tungku kristal tunggal fotovoltaik.

Produksi Semicorex

Semicorex membuat grafit dengan metode produksi batch kecil dan khusus. Produksi batch kecil membuat produk lebih mudah dikendalikan. Seluruh proses dikendalikan oleh Programmable Logic Controllers (PLCs), data proses terperinci dicatat, memungkinkan keterlacakan siklus hidup lengkap.

Selama seluruh proses pemanggangan, konsistensi yang dicapai dalam resistivitas di berbagai lokasi, dan kontrol suhu yang ketat dipertahankan. Ini memastikan homogenitas dan keandalan bahan grafit.

Semicorex menggunakan teknologi penekan sepenuhnya isostatik, yang berbeda dari pemasok lain; Ini berarti grafit adalah ultra seragam itu sendiri dan terbukti sangat penting dalam proses epitaxial. Tes keseragaman material yang komprehensif dilakukan, termasuk kepadatan, resistivitas, kekerasan, kekuatan lentur, dan kekuatan di berbagai sampel.