Apa itu Proses Epitaksi Silikon?

Epitaksi silikon adalah proses fabrikasi utama untuk sirkuit terpadu. Hal ini memungkinkan perangkat IC dibuat pada lapisan epitaksi yang didoping ringan dengan lapisan terkubur yang didoping banyak, sekaligus membentuk sambungan PN yang berkembang, sehingga memecahkan masalah isolasi IC.Wafer epitaksi silikonjuga merupakan bahan utama untuk membuat perangkat semikonduktor diskrit karena dapat memastikan tegangan tembus yang tinggi pada sambungan PN sekaligus mengurangi penurunan tegangan maju perangkat. Menggunakan wafer epitaksi silikon untuk membuat sirkuit CMOS dapat menekan efek latch-up, oleh karena itu, wafer epitaksi silikon semakin banyak digunakan dalam perangkat CMOS.

Prinsip Epitaksi Silikon

Epitaksi silikon umumnya menggunakan tungku epitaksi fase uap. Prinsipnya adalah dekomposisi sumber silikon (seperti silan, diklosilana, triklorosilan, dan silikon tetraklorida bereaksi dengan hidrogen untuk menghasilkan silikon. Selama pertumbuhan, gas doping seperti PH₃ dan B₂H₆ dapat dimasukkan secara bersamaan. Konsentrasi doping dikontrol secara tepat oleh tekanan parsial gas untuk membentuk lapisan epitaksial dengan resistivitas tertentu.

Keuntungan Epitaksi Silikon untuk Perangkat

1. Resistansi seri yang lebih rendah, menyederhanakan teknik isolasi, dan mengurangi efek penyearah yang dikontrol silikon dalam CMOS.

2. Lapisan epitaksi resistivitas tinggi (rendah) dapat ditumbuhkan secara epitaksi pada substrat resistivitas rendah (tinggi);

3. Lapisan epitaksi tipe N(P) dapat ditanam pada substrat tipe P(N) untuk langsung membentuk sambungan PN, menghilangkan masalah kompensasi yang terjadi saat membuat sambungan PN pada substrat kristal tunggal menggunakan metode difusi.

4.Dikombinasikan dengan teknologi masking, pertumbuhan epitaksial selektif dapat dilakukan di area yang ditentukan, menciptakan kondisi untuk pembuatan sirkuit terpadu dan perangkat dengan struktur khusus.

5.Selama proses pertumbuhan epitaksi, jenis dan konsentrasi doping dapat disesuaikan sesuai kebutuhan; perubahan konsentrasi dapat terjadi secara tiba-tiba atau bertahap.

6.Jenis dan konsentrasi dopan dapat diatur sesuai kebutuhan selama proses pertumbuhan epitaksi. Perubahan konsentrasi bisa terjadi secara tiba-tiba atau bertahap.

Semicorex menyediakan Si epitaksi ckomponendiperlukan untuk untuk peralatan semikonduktor. Jika Anda memiliki pertanyaan atau memerlukan detail tambahan, jangan ragu untuk menghubungi kami.

Hubungi telepon #+86-13567891907

Email: penjualan@semicorex.com