Apa itu sistem MOCVD?

MOCVD, dikenal sebagai Metal-Organic Chemical Vapor Deposition (MOCVD), adalah teknik untuk menumbuhkan film semikonduktor tipis pada substrat. Dengan MOCVD, banyak lapisan nano dapat disimpan dengan sangat presisi, masing-masing dengan ketebalan yang terkontrol, untuk membentuk bahan dengan sifat optik dan listrik tertentu.

Sistem MOCVD adalah jenis sistem pengendapan uap kimia (CVD) yang menggunakan prekursor organik logam untuk menyimpan lapisan tipis material ke substrat. Sistem terdiri dari bejana reaktor, sistem pengiriman gas, penahan substrat, dan sistem kontrol suhu. Prekursor organik logam dimasukkan ke dalam bejana reaktor bersama dengan gas pembawa, dan suhu dikontrol dengan hati-hati untuk memastikan pertumbuhan film tipis berkualitas tinggi.

Penggunaan MOCVD memiliki beberapa keunggulan dibandingkan teknik pengendapan lainnya. Salah satu keuntungannya adalah memungkinkan pengendapan material kompleks dengan kontrol presisi atas ketebalan dan komposisi film tipis. Hal ini sangat penting untuk produksi perangkat semikonduktor berperforma tinggi, di mana sifat material dari film tipis dapat berdampak signifikan pada kinerja perangkat.

Keuntungan lain dari MOCVD adalah dapat digunakan untuk menyimpan film tipis pada berbagai substrat, termasuk silikon, safir, dan galium arsenida. Fleksibilitas ini menjadikannya proses penting dalam pembuatan berbagai perangkat semikonduktor, dari chip komputer hingga LED.

Sistem MOCVD banyak digunakan dalam industri semikonduktor, dan telah berperan penting dalam pengembangan banyak teknologi canggih. Misalnya, MOCVD telah digunakan untuk menghasilkan LED efisiensi tinggi untuk aplikasi penerangan dan tampilan, serta sel surya berkinerja tinggi untuk aplikasi fotovoltaik.