Semicorex CVD Epitaxial Deposition In Barrel Reactor adalah produk yang sangat tahan lama dan andal untuk menumbuhkan lapisan epixial pada chip wafer. Ketahanan oksidasi suhu tinggi dan kemurnian tinggi membuatnya cocok untuk digunakan dalam industri semikonduktor. Profil termalnya yang rata, pola aliran gas laminar, dan pencegahan kontaminasi menjadikannya pilihan ideal untuk pertumbuhan lapisan epixial berkualitas tinggi.
Baca selengkapnyamengirimkan permintaan