Produk

View as  
 
Deposisi Epitaxial CVD Dalam Reaktor Barrel

Deposisi Epitaxial CVD Dalam Reaktor Barrel

Semicorex CVD Epitaxial Deposition In Barrel Reactor adalah produk yang sangat tahan lama dan andal untuk menumbuhkan lapisan epixial pada chip wafer. Ketahanan oksidasi suhu tinggi dan kemurnian tinggi membuatnya cocok untuk digunakan dalam industri semikonduktor. Profil termalnya yang rata, pola aliran gas laminar, dan pencegahan kontaminasi menjadikannya pilihan ideal untuk pertumbuhan lapisan epixial berkualitas tinggi.

Baca selengkapnyamengirimkan permintaan
<1>
Apakah Anda ingin membeli yang canggih dan tahan lama Single-Wafer-Carrier? Semicorex jelas merupakan pilihan bagus Anda. Kami dikenal sebagai salah satu produsen dan pemasok Single-Wafer-Carrier paling kompetitif di China. Kami juga menyediakan kemasan massal. Anda mungkin memerlukan beberapa layanan khusus untuk memenuhi kebutuhan sebenarnya di wilayah Anda, Anda dapat meninggalkan pesan kepada kami melalui informasi kontak di halaman web. Kami dengan tulus menyambut pelanggan baru dan lama untuk mengunjungi pabrik kami untuk konsultasi dan negosiasi.
We use cookies to offer you a better browsing experience, analyze site traffic and personalize content. By using this site, you agree to our use of cookies. Privacy Policy
Reject Accept