Substrat Wafer Aluminium Nitrida 30mm

Atribut unik Substrat Wafer Aluminium Nitrida Semicorex 30mm menjadikannya substrat ideal untuk LED ultraviolet (UV), detektor UV, laser UV, dan perangkat RF berdaya tinggi/frekuensi tinggi 5G generasi berikutnya. Dalam komunikasi nirkabel, sifat Substrat Wafer Aluminium Nitrida 30mm memfasilitasi pengembangan perangkat yang mampu menangani daya dan frekuensi tinggi yang penting untuk teknologi 5G, sehingga meningkatkan transmisi dan penerimaan sinyal. Selain itu, di bidang kesehatan dan militer, perangkat berbasis AlN digunakan dalam fototerapi medis untuk merawat kondisi kulit, penemuan obat melalui terapi fotodinamik, dan teknologi komunikasi yang aman di ruang angkasa. Hal ini menunjukkan keserbagunaan Substrat Wafer Aluminium Nitrida 30 mm dan peran penting dalam kemajuan teknologi di seluruh bidang. beragam sektor.

mengirimkan permintaan

Deskripsi Produk

Substrat Substrat Wafer Aluminium Nitrida Semicorex 30mm memiliki sifat luar biasa yang penting untuk aplikasi semikonduktor tingkat lanjut. Celah pitanya yang lebar memungkinkan perangkat beroperasi pada tegangan dan suhu tinggi sekaligus meminimalkan kebocoran listrik, yang sangat penting bagi elektronika daya. Konduktivitas termal yang tinggi dari Substrat Wafer Aluminium Nitrida 30 mm sangat penting dalam mengelola panas yang dihasilkan pada perangkat berdaya tinggi, sehingga secara efektif meningkatkan keandalan dan kinerja perangkat. Selain itu, bidang kerusakan tinggi pada Substrat Wafer Aluminium Nitrida 30mm memungkinkan perangkat yang tahan terhadap medan listrik tinggi tanpa kerusakan, ideal untuk aplikasi yang memerlukan kepadatan dan efisiensi daya tinggi.

Substrat Substrat Wafer Aluminium Nitrida 30mm menunjukkan mobilitas elektron tinggi, yang berarti perangkat elektronik lebih cepat dengan respons frekuensi lebih baik. Karakteristik ini sangat bermanfaat dalam pembuatan perangkat frekuensi radio (RF) dan elektronik berkecepatan tinggi, yang memerlukan transmisi dan pemrosesan sinyal cepat. Selain itu, ketahanan terhadap korosi dan radiasi Substrat Wafer Aluminium Nitrida 30mm menjadikannya pilihan yang luar biasa untuk lingkungan yang keras, seperti aplikasi luar angkasa, di mana material terpapar gas korosif dan radiasi tingkat tinggi. Ketahanan ini memastikan keandalan dan fungsionalitas perangkat dalam kondisi ekstrem dalam jangka panjang, menjadikan Substrat Wafer Aluminium Nitrida 30mm sebagai substrat optimal untuk perangkat optoelektronik dan komponen elektronik berdaya tinggi/frekuensi tinggi.

Saat ini kami menawarkan kepada klien kami produk substrat kristal tunggal aluminium nitrida berkualitas tinggi standar dengan dimensi 10x10mm, Φ10mm, Φ15mm, Φ20mm, Φ25.4mm, Φ30mm, dan Φ50.8mm. Selain itu, kami juga menyediakan substrat kristal tunggal aluminium nitrida permukaan M non-polar dalam kisaran 10-20mm. Untuk kebutuhan yang dipesan lebih dahulu, kami dapat menyesuaikan irisan pemoles substrat kristal tunggal aluminium nitrida mulai dari 5 mm hingga 50,8 mm. Beragam penawaran ini memenuhi sejumlah besar kebutuhan klien dan memungkinkan eksplorasi beragam batas teknologi.