Chuck Vakum Al2O3

Aplikasi dalam Manufaktur Semikonduktor

SemicorexAl2O3 Vacuum Chuck adalah alat serbaguna yang digunakan di berbagai tahap produksi semikonduktor:

Penipisan: Selama proses penipisan wafer, Chuck Vakum Al2O3 memberikan dukungan yang stabil dan seragam, memastikan pengurangan substrat dengan presisi tinggi. Hal ini penting untuk meningkatkan pembuangan panas chip dan meningkatkan kinerja perangkat.

Dicing: Pada tahap dicing, di mana wafer dipotong menjadi chip individual, Al2O3 Vacuum Chuck menawarkan adsorpsi yang aman dan stabil, meminimalkan risiko kerusakan dan memastikan potongan yang bersih.

Pembersihan: Permukaan adsorpsi yang halus dan seragam pada Chuck Vakum Al2O3 membuatnya cocok untuk proses pembersihan wafer, memastikan kontaminan dihilangkan secara efektif tanpa merusak wafer.

Pengangkutan: Selama penanganan dan pengangkutan wafer, Chuck Vakum Al2O3 memberikan dukungan yang andal dan aman, mengurangi risiko kerusakan dan kontaminasi.

SemicorexKekosonganAliran Chuck

Keuntungan dari Chuck Vakum Semicorex Al2O3

1. Teknologi Keramik Berpori Mikro yang Seragam

Chuck Vakum Al2O3 dibuat menggunakan teknologi keramik berpori mikro, yang melibatkan penggunaan bubuk nano berukuran seragam. Teknologi ini memastikan pori-pori terdistribusi secara merata dan saling berhubungan, sehingga menghasilkan porositas tinggi dan struktur padat yang seragam. Keseragaman ini meningkatkan kinerja pencekam vakum, memberikan dukungan wafer yang konsisten dan andal.

2. Sifat Material yang Luar Biasa

Alumina 99,99% ultra-murni (Al2O3) yang digunakan dalam Vacuum Chuck Al2O3 menawarkan serangkaian sifat luar biasa:

Sifat Termal: Dengan ketahanan panas yang tinggi dan konduktivitas termal yang sangat baik, Vacuum Chuck Al2O3 dapat menahan suhu tinggi yang biasa ditemui dalam manufaktur semikonduktor.

Sifat Mekanik: Kekuatan dan kekerasan Alumina yang tinggi memastikan bahwa Vacuum Chuck Al2O3 tahan lama dan tahan terhadap keausan, memberikan kinerja yang tahan lama.

Properti Lainnya: Alumina juga menawarkan isolasi listrik yang tinggi dan ketahanan terhadap korosi, menjadikan Vacuum Chuck Al2O3 cocok untuk berbagai lingkungan manufaktur.

3. Kerataan dan Paralelisme Unggul

Salah satu keunggulan utama Chuck Vakum Al2O3 adalah kerataan dan paralelismenya yang tinggi. Sifat-sifat ini sangat penting untuk memastikan penanganan wafer yang tepat dan stabil, meminimalkan risiko kerusakan, dan memastikan hasil pemrosesan yang konsisten. Selain itu, permeabilitas udara yang baik dan kekuatan adsorpsi yang seragam dari Chuck Vakum Al2O3 memastikan pengoperasian yang lancar dan andal.

4. Opsi Kustomisasi

Di Semicorex, kami memahami bahwa setiap proses pembuatan semikonduktor memiliki persyaratan unik. Itu sebabnya kami menawarkan Vacuum Chuck khusus yang dirancang untuk memenuhi kebutuhan spesifik Anda. Bergantung pada kerataan yang diperlukan dan biaya produksi, kami merekomendasikan bahan dasar yang berbeda, memastikan bahwa berat dan kinerja pencekam vakum dioptimalkan untuk aplikasi Anda. Bahan-bahan tersebut antara lain baja tahan karat SUS430, Aluminium Alloy 6061, keramik Alumina padat (warna gading), granit, dan keramik silikon karbida padat.

Pengukuran CMM Chuck Vakum Al2O3