Cakram Keramik AlN

Konduktivitas termal Cakram Keramik AlN berkisar antara 170 dan 220 W/m.K. Konduktivitas termal ini jauh lebih tinggi—5 hingga 8,5 kali lebih besar—dibandingkan keramik alumina tradisional, menjadikan Cakram Keramik AlN ideal untuk aplikasi yang mengutamakan pembuangan panas yang efisien. Hal ini menjadikannya sangat berharga dalam industri elektronik, di mana pembuangan panas sangat penting untuk menjaga kinerja dan umur panjang perangkat elektronik.

Koefisien ekspansi termal Cakram Keramik AlN serupa dengan silikon (Si), yang memainkan peran penting dalam memastikan keandalan chip silikon. Kesamaan ini membantu meminimalkan tekanan termal selama fluktuasi suhu, sehingga meningkatkan daya tahan dan kinerja komponen elektronik berbasis Si. Properti ini sangat bermanfaat dalam aplikasi presisi tinggi di mana ketidaksesuaian ekspansi termal dapat menyebabkan kegagalan atau penurunan efisiensi.

Cakram Keramik AlN juga dikenal dengan ketahanan isolasi dan kekuatan ketahanan tegangannya yang tinggi. Meskipun memiliki sifat insulasi yang tinggi, bahan ini mempertahankan konstanta dielektrik dan kehilangan dielektrik yang rendah, menjadikannya ideal untuk aplikasi di bidang elektronik yang memerlukan insulasi listrik dan transmisi sinyal yang efisien. Properti ini memungkinkan Cakram Keramik AlN untuk digunakan pada perangkat komunikasi frekuensi tinggi, memastikan kinerja optimal dan kehilangan energi minimal.

Kekuatan mekanis Cakram Keramik AlN merupakan keunggulan utama lainnya. Dengan kekuatan mekanis yang mencapai hingga 450 MPa, cakram ini memiliki bodi keramik yang sangat padat dan bebas porositas, sehingga meningkatkan integritas struktural dan ketahanan terhadap tekanan mekanis. Kekokohan ini memastikan bahwa Cakram Keramik AlN dapat bertahan terhadap kerasnya aplikasi yang menuntut tanpa mengurangi kinerja atau keandalannya.

Fitur menarik lainnya dari Cakram Keramik AlN adalah kemurniannya yang bisa mencapai 99%. Tingkat kemurnian tinggi ini memastikan bahan tersebut bebas dari kontaminan dan memenuhi peraturan keselamatan dan lingkungan yang ketat seperti RoHS dan REACH. Sifat Cakram Keramik AlN yang tidak beracun membuatnya cocok untuk berbagai aplikasi, termasuk aplikasi yang mengutamakan keamanan material.

Dalam konteks manufaktur semikonduktor, Cakram Keramik AlN menunjukkan ketahanan plasma yang sangat baik. Selama pemrosesan semikonduktor, gas prekursor yang mudah menguap, plasma, dan suhu tinggi digunakan untuk menyimpan film tipis berkualitas tinggi pada wafer. Daya tahan Cakram Keramik AlN memungkinkannya tahan terhadap lingkungan yang keras ini, menjadikannya sempurna untuk digunakan di ruang pengendapan dan alat penanganan wafer.

Cakram Keramik AlN memiliki beragam aplikasi di berbagai industri. Di bidang elektronik, mereka berfungsi sebagai substrat untuk perangkat elektronik berdaya tinggi, di mana konduktivitas termal dan sifat isolasi listriknya sangat penting. Mereka juga digunakan sebagai penyerap panas untuk LED berdaya tinggi, yang secara efektif mengelola pembuangan panas untuk memastikan kinerja optimal dan umur panjang.

Selain elektronik, Cakram Keramik AlN digunakan dalam perangkat komunikasi frekuensi tinggi karena sifat termal dan listriknya yang menguntungkan. Penerapannya meluas ke sistem laser dan komponen gelombang mikro, dimana kemampuannya untuk menangani daya tinggi dan menjaga integritas sinyal sangat diperlukan.

Selain itu, Cakram Keramik AlN digunakan sebagai alat pemotong, memanfaatkan sifat termal dan mekanik yang sangat baik untuk menahan tekanan dan suhu tinggi yang terlibat dalam operasi pemotongan. Kemampuannya untuk mempertahankan ketajaman dan daya tahan dalam kondisi ekstrem menjadikannya pilihan utama untuk aplikasi pemotongan presisi.