Chuck Vakum Keramik Alumina

Chuck Vakum Keramik Alumina Semicorex memainkan peran penting dalam fase penipisan dan penggilingan wafer pada manufaktur semikonduktor. Tahapan ini melibatkan pengurangan ketebalan substrat wafer secara cermat untuk meningkatkan pembuangan panas chip, yang sangat penting untuk meningkatkan efisiensi dan umur panjang perangkat semikonduktor. Menipiskan wafer hingga mencapai spesifikasi yang tepat juga penting untuk memfasilitasi teknik pengemasan yang canggih.

Kompatibilitas dengan Berbagai Ukuran Wafer

Chuck Vakum Keramik Alumina dirancang untuk mendukung berbagai ukuran wafer, termasuk 2, 3, 4, 5, 6, 8, dan 12 inci. Kemampuan beradaptasi ini membuatnya cocok untuk beragam lingkungan produksi semikonduktor, memastikan kinerja yang konsisten dan andal di berbagai dimensi wafer.

Komposisi Bahan Unggul

Dasar Chuck Vakum Keramik Alumina dibuat dari 99,99% Alumina (Al2O3) ultra murni, yang memberikan ketahanan luar biasa terhadap serangan kimia dan stabilitas termal. Permukaan adsorpsi terbuat dari silikon karbida (SiC) berpori. Struktur bahan keramik berpori yang kompak dan seragam meningkatkan daya tahan dan kinerjanya.

Keunggulan Teknologi Keramik Berpori Mikro

Kerataan dan Paralelisme yang Ditingkatkan: Chuck Vakum Keramik Alumina berpori mikro menghasilkan kerataan dan paralelisme yang luar biasa, memastikan penanganan dan stabilitas wafer yang presisi.

Porositas dan Pernapasan Optimal: Pori-pori mikro yang terdistribusi dengan baik memberikan permeabilitas udara yang unggul dan kekuatan adsorpsi yang seragam, sehingga menghasilkan pengoperasian yang lancar dan konsisten.

Kemurnian dan Daya Tahan Bahan: Terbuat dari 99,99% Alumina murni, Chuck Vakum Keramik Alumina kami tahan terhadap serangan bahan kimia dan menawarkan stabilitas termal yang luar biasa, sehingga cocok untuk lingkungan manufaktur yang menuntut.

Desain yang Dapat Disesuaikan: Kami menawarkan berbagai bentuk yang dapat disesuaikan, termasuk desain melingkar, persegi, melingkar, dan berbentuk L, dengan pilihan ketebalan mulai dari 3MM hingga 10MM. Penyesuaian ini memastikan bahwa Chuck Vakum Keramik Alumina kami memenuhi kebutuhan spesifik berbagai proses manufaktur semikonduktor.

Beragam Pilihan Bahan Dasar: Berdasarkan persyaratan kerataan dan biaya produksi, kami memberikan rekomendasi untuk bahan dasar yang berbeda, seperti baja tahan karat SUS430, Paduan Aluminium 6061, keramik Alumina padat (warna gading), granit, dan keramik silikon karbida padat. Setiap material dipilih untuk mengoptimalkan bobot dan kinerja Chuck Vakum Keramik Alumina.