Alas Kuarsa Fused, dirancang khusus untuk digunakan dalam Deposisi Lapisan Atom (ALD), Deposisi Uap Kimia Bertekanan Rendah (LPCVD), dan proses difusi, memastikan deposisi lapisan tipis yang seragam pada permukaan wafer.**
Dalam fabrikasi semikonduktor, Fused Quartz Pedestal berfungsi sebagai struktur pendukung perahu kuarsa, yang menampung wafer. Dengan mempertahankan suhu konstan, hal ini membantu mencapai deposisi film tipis yang seragam, yang merupakan faktor penting bagi kinerja dan keandalan perangkat semikonduktor. Alas tersebut memastikan distribusi panas dan cahaya di dalam ruang proses merata, sehingga meningkatkan kualitas proses pengendapan secara keseluruhan.
Keuntungan Bahan Kuarsa Menyatu
1. Tahan Suhu Tinggi
Fused Quartz Pedestal memiliki titik pelunakan sekitar 1730°C, sehingga dapat bertahan dalam penggunaan jangka panjang pada suhu berkisar antara 1100°C hingga 1250°C. Selain itu, ia dapat bertahan terhadap paparan suhu setinggi 1450°C dalam jangka pendek.
2. Ketahanan Korosi
Alas Kuarsa Fused secara kimia inert terhadap sebagian besar asam, kecuali asam fluorida. Ketahanan asamnya melampaui keramik sebanyak 30 kali lipat dan baja tahan karat sebanyak 150 kali lipat. Pada suhu tinggi, tidak ada bahan lain yang dapat menandingi stabilitas kimia kuarsa leburan, menjadikannya pilihan ideal untuk lingkungan kimia yang keras.
3. Stabilitas Termal
Salah satu fitur menonjol dari Fused Quartz Pedestal adalah koefisien muai panasnya yang minimal. Properti ini memungkinkannya menahan perubahan suhu yang parah tanpa retak. Misalnya, bahan tersebut dapat dipanaskan dengan cepat hingga suhu 1100°C dan kemudian direndam dalam air pada suhu kamar tanpa mengalami kerusakan—sebuah karakteristik penting untuk proses manufaktur bertekanan tinggi.
Proses Manufaktur
Proses pembuatan Fused Quartz Pedestal dikontrol dengan cermat untuk memastikan standar kualitas tertinggi. Alas diproduksi melalui proses thermoforming dan pengelasan yang dilakukan di lingkungan ruang bersih kelas 10.000 atau lebih tinggi. Pembersihan selanjutnya dengan air ultra murni (18 MΩ)lebih menjamin kemurnian dan kinerja produk. Setiap Alas Kuarsa Fused menjalani pemeriksaan, pembersihan, dan pengemasan yang ketat di ruang bersih kelas 1.000 atau lebih tinggi untuk memenuhi persyaratan ketat fabrikasi semikonduktor.
Bahan Kuarsa Buram Kemurnian Tinggi
Untuk memblokir panas dan cahaya secara efektif, Fused Quartz Pedestal menggunakan bahan kuarsa buram dengan kemurnian tinggi. Sifat unik bahan ini meningkatkan kemampuan alas untuk mempertahankan suhu yang stabil dan seragam di dalam ruang proses, sehingga memastikan kualitas pengendapan film tipis yang konsisten pada wafer.
Beragam Aplikasi
Sifat luar biasa dari Fused Quartz Pedestal membuatnya cocok untuk berbagai aplikasi dalam industri semikonduktor. Dalam proses ALD, ini mendukung kontrol yang tepat terhadap pertumbuhan film tipis pada tingkat atom, yang penting untuk produksi perangkat semikonduktor canggih. Selama proses LPCVD, stabilitas termal dan kemampuan pemblokiran cahaya pada alas berkontribusi pada deposisi film yang seragam, sehingga meningkatkan kinerja dan hasil perangkat.
Dalam proses difusi, ketahanan suhu tinggi dan kelembaman kimia dari Fused Quartz Pedestal memastikan doping bahan semikonduktor yang andal dan konsisten. Proses ini sangat penting untuk menentukan sifat listrik perangkat semikonduktor, dan penggunaan bahan berkualitas tinggi seperti leburan kuarsa sangat penting untuk mencapai hasil yang optimal.