Perahu Wafer Kuarsa Horisontal

Perahu wafer kuarsa horizontalbiasanya memegang wafer semikonduktor secara horizontal di dalam tabung tungku peralatan perlakuan panas, dipanaskan oleh perangkat pemanas eksternal. Mereka banyak digunakan dalam proses perlakuan panas semikonduktor korosif suhu tinggi, seperti proses oksidasi termal, difusi suhu tinggi, anil, dan deposisi uap kimia (CVD).

Fungsi perahu wafer kuarsa horizontal Semicorex

1. Penahanan dan pengamanan yang stabil

Perahu wafer kuarsa horizontal semicorex memiliki kapasitas menahan beban yang sangat baik dan dapat terus-menerus menawarkan dukungan stabil untuk beberapa wafer semikonduktor. Dan desain eksternalnya yang dioptimalkan serta struktur slot yang tepat memastikan semuanyakue kue waferdipasang dengan sempurna dan diamankan dengan kuat pada perahu wafer kuarsa horizontal, yang secara signifikan mengurangi goresan dan benturan wafer yang disebabkan oleh guncangan, perpindahan, dan kemiringan selama proses pengangkutan dan produksi.

2. Bantuan keseragaman proses

Struktur slot dengan jarak yang sama pada perahu wafer kuarsa horizontal memungkinkan penempatan wafer semikonduktor secara teratur, sehingga menciptakan medan aliran gas yang stabil dan lancar di tungku suhu tinggi. Desain struktural mencapai kontak gas dan laju reaksi yang konsisten pada setiap permukaan wafer, sehingga secara efektif mengurangi berbagai cacat yang disebabkan oleh pemanasan yang tidak merata dan kontak gas diferensial, seperti oksidasi wafer yang tidak lengkap, deposisi film tipis yang tidak merata, dan penyimpangan konsentrasi doping.

3. Kehidupan pelayanan yang tahan lama

Berkat ketahanan bahan kuarsa yang unggul terhadap suhu tinggi, perahu wafer kuarsa horizontal Semicorex dapat menahan suhu tinggi 1100-1200℃ untuk waktu yang lama tanpa deformasi atau peleburan.Kuarsasecara kimia inert terhadap gas yang biasa digunakan dalam proses semikonduktor, seperti oksigen, nitrogen, dan hidrogen klorida. Kelambanan kimia yang luar biasa ini dapat meminimalkan risiko korosi dari gas proses, sehingga memperpanjang masa pakai serta mengurangi waktu dan biaya penggantian peralatan.