Perahu Wafer SiC Horisontal

Fitur yang menentukan dari Semicorex Horizontal SiC Wafer Boat adalah arsitektur slotnya yang dirancang dengan cermat, dirancang khusus untuk menahan wafer dengan aman di tempatnya selama berbagai proses suhu tinggi. Batasan wafer yang tepat ini memiliki beberapa fungsi penting:

Penghapusan Gerakan Wafer:Dengan mencegah terjadinya pergeseran atau pergeseran yang tidak diinginkan, Perahu Wafer SiC Horisontal memastikan paparan yang konsisten terhadap gas proses dan profil suhu, berkontribusi pada pemrosesan wafer yang sangat seragam dan meminimalkan risiko cacat.

Peningkatan Keseragaman Proses:Penempatan wafer yang konsisten secara langsung berarti keseragaman yang unggul dalam parameter penting seperti ketebalan lapisan, konsentrasi doping, dan morfologi permukaan. Ketepatan ini sangat penting dalam aplikasi seperti deposisi uap kimia (CVD) dan difusi, di mana variasi sekecil apa pun dapat berdampak signifikan terhadap kinerja perangkat.

Mengurangi Kerusakan Wafer:Pegangan yang aman pada Perahu Wafer SiC Horizontal meminimalkan potensi wafer terkelupas, pecah, atau tergores selama penanganan dan pengangkutan, yang penting untuk mempertahankan hasil yang tinggi dan mengurangi biaya produksi.

Selain desainnya yang presisi, Horizontal SiC Wafer Boat menawarkan kombinasi sifat material yang menarik sehingga ideal untuk manufaktur semikonduktor dan fotovoltaik:

Ketahanan Suhu Ekstrim: Perahu Wafer SiC Horisontal menunjukkan kekuatan dan stabilitas suhu tinggi yang luar biasa, memungkinkannya menahan kondisi termal ekstrem yang dihadapi selama proses seperti pertumbuhan kristal, anil, dan pemrosesan termal cepat (RTP) tanpa deformasi atau degradasi.

Kemurnian Sangat Tinggi untuk Pengendalian Kontaminasi:Penggunaan SiC dengan kemurnian tinggi memastikan pelepasan gas atau pembentukan partikulat yang minimal, menjaga integritas permukaan wafer yang sensitif dan mencegah kontaminasi yang dapat mengganggu kinerja perangkat.

Stabilitas Kimia yang Luar Biasa:Kelambanan yang melekat pada SiC membuat Perahu Wafer SiC Horizontal sangat tahan terhadap serangan gas korosif dan bahan kimia yang biasa digunakan dalam fabrikasi semikonduktor dan fotovoltaik. Stabilitas kimia yang kuat ini memastikan umur operasional yang panjang dan meminimalkan risiko kontaminasi silang antar proses yang dijalankan.

Keunggulan keserbagunaan dan kinerja dari Perahu Wafer SiC Horizontal telah menyebabkan penggunaannya secara luas dalam berbagai proses manufaktur semikonduktor dan fotovoltaik yang penting:

Pertumbuhan Epitaksi:Penempatan wafer yang tepat dan keseragaman suhu sangat penting untuk mencapai lapisan epitaksi berkualitas tinggi pada perangkat semikonduktor canggih, sehingga Horizontal SiC Wafer Boat merupakan alat penting untuk proses ini.

Difusi dan Implantasi Ion:Kontrol doping yang akurat sangat penting dalam menentukan karakteristik listrik perangkat semikonduktor. Perahu Wafer SiC Horizontal memastikan posisi wafer yang tepat selama proses ini, sehingga menghasilkan peningkatan keseragaman dan kinerja perangkat.

Pembuatan Sel Surya:Kemampuan suhu tinggi dan ketahanan kimia dari Horizontal SiC Wafer Boat menjadikannya ideal untuk memproses wafer silikon yang digunakan dalam sel fotovoltaik, sehingga berkontribusi terhadap peningkatan efisiensi dan umur panjang sistem energi surya.