> Produk > Grafit Khusus > Grafit Isostatik > Wadah Grafit Isostatik untuk Peleburan

Produk

produk baru

Wadah Grafit Isostatik untuk Peleburan

Wadah Grafit Isostatik Semicorex untuk Peleburan diproduksi menggunakan teknik pengepresan isostatik, yang meningkatkan kepadatan material dan sifat mekaniknya. Hal ini menghasilkan bejana yang tidak hanya tahan terhadap suhu ekstrem dan lingkungan korosif yang biasa terjadi pada pemrosesan semikonduktor, tetapi juga menawarkan daya tahan jangka panjang. Kekokohan cawan lebur memastikan cawan lebur dapat menangani siklus termal berulang tanpa degradasi, sehingga memberikan kinerja yang konsisten selama periode operasional yang lama. Kami di Semicorex berdedikasi untuk memproduksi dan memasok Wadah Grafit Isostatik berkinerja tinggi untuk Peleburan yang memadukan kualitas dengan efisiensi biaya.

mengirimkan permintaan

Deskripsi Produk

Wadah Grafit Isostatik Semicorex untuk Peleburan menunjukkan karakteristik unik di mana kekuatan mekaniknya meningkat seiring dengan kenaikan suhu. Properti ini sangat menguntungkan dalam proses pertumbuhan kristal semikonduktor suhu tinggi seperti metode Czochralski, di mana wadah harus menjaga integritas struktural dalam kondisi termal yang ekstrim. Peningkatan kekuatan pada suhu tinggi memastikan bahwa Wadah Grafit Isostatik untuk Peleburan dapat menahan tekanan mekanis yang terkait dengan penanganan dan pergerakan material cair, sehingga mengurangi risiko patah atau deformasi selama pengoperasian.

Wadah Grafit Isostatik untuk Peleburan dikenal karena ketahanannya yang luar biasa terhadap suhu tinggi, menjadikannya ideal untuk aplikasi semikonduktor yang memerlukan paparan panas ekstrem dalam waktu lama. Wadah Grafit Isostatik untuk Peleburan ini dapat mempertahankan kinerja jauh di atas 2000°C, memastikan bahwa wadah tersebut tetap stabil selama peleburan dan kristalisasi bahan seperti silikon dan safir. Ketahanan suhu tinggi ini penting untuk menjaga kemurnian dan kualitas kristal yang tumbuh, karena mencegah kontaminasi dan degradasi bahan wadah seiring waktu.

Wadah Grafit Isostatik untuk Peleburan ini dapat menahan perubahan suhu yang cepat tanpa retak atau terkelupas, yang sangat penting selama proses yang melibatkan siklus pemanasan dan pendinginan mendadak. Ketahanan terhadap guncangan termal ini menjamin umur wadah yang panjang dan mengurangi kemungkinan gangguan proses akibat kegagalan wadah, sehingga meningkatkan efisiensi operasional dan produktivitas secara keseluruhan.

Stabilitas kimia dari Wadah Grafit Isostatik untuk Peleburan memastikan bahwa wadah tersebut tetap lembam di lingkungan bersuhu tinggi, mencegah reaksi kimia yang dapat membahayakan kemurnian kristal semikonduktor. Stabilitas ini sangat penting untuk menjaga kinerja dan keandalan wadah selama proses pertumbuhan kristal. Hal ini juga memastikan bahwa Wadah Grafit Isostatik untuk Peleburan tidak memasukkan kontaminan apa pun ke dalam lelehan, sehingga menjaga kualitas produk akhir.