Reseptor Epitaksi MOCVD

Keuntungan untuk Menuntut Aplikasi Epitaksi:

Kemurnian Ultra Tinggi:Itu MOCVD Epitaxy Susceptor dibuat untuk mencapai tingkat kemurnian sangat tinggi, meminimalkan risiko pengotor yang tidak diinginkan dimasukkan ke dalam lapisan epitaksi yang sedang tumbuh. Kemurnian luar biasa ini sangat penting untuk mempertahankan mobilitas pembawa yang tinggi, mencapai profil doping yang optimal, dan pada akhirnya, mewujudkan perangkat semikonduktor berkinerja tinggi.

Ketahanan Guncangan Termal yang Luar Biasa:MOCVD Epitaxy Susceptor menghadirkan ketahanan yang luar biasa terhadap kejutan termal, tahan terhadap perubahan suhu yang cepat dan gradien yang melekat pada proses MOCVD. Stabilitas ini memastikan kinerja yang konsisten dan andal selama fase pemanasan dan pendinginan kritis, meminimalkan risiko wafer membungkuk, cacat akibat stres, dan gangguan proses.

Ketahanan Kimia Unggul:Epitaxy Susceptor MOCVD menunjukkan ketahanan luar biasa terhadap berbagai gas reaktif dan bahan kimia yang digunakan dalam MOCVD, termasuk produk samping korosif yang dapat terbentuk pada suhu tinggi. Kelambanan ini mencegah kontaminasi lapisan epitaksial dan memastikan kemurnian bahan semikonduktor yang diendapkan, yang penting untuk mencapai sifat listrik dan optik yang diinginkan.

Ketersediaan di Komplex Bentuk: Susceptor Epitaxy MOCVD dapat dikerjakan secara presisi menjadi bentuk dan geometri yang kompleks untuk mengoptimalkan dinamika aliran gas dan keseragaman suhu dalam reaktor MOCVD. Kemampuan desain yang disesuaikan ini memungkinkan pemanasan wafer substrat secara seragam, meminimalkan variasi suhu yang dapat menyebabkan pertumbuhan epitaksi dan kinerja perangkat yang tidak konsisten.