Pelapisan TaC dengan metode CVD

Lapisan karbida Tantalum adalah bahan struktural suhu tinggi berkekuatan tinggi, tahan korosi, dan stabil secara kimiawi dengan titik leleh hingga 4273 °C, salah satu dari beberapa senyawa dengan ketahanan suhu tertinggi. Ia memiliki sifat mekanik suhu tinggi yang sangat baik, ketahanan terhadap gerusan aliran udara berkecepatan tinggi, ketahanan ablasi, dan kompatibilitas kimia dan mekanik yang baik dengan komposit grafit dan karbon/karbon. Oleh karena itu, dalam proses epitaksi LED GaN dan perangkat daya SiC seperti MOCVD, lapisan TaC memiliki ketahanan asam dan alkali yang sangat baik terhadap H2, HCl, NH3, yang sepenuhnya dapat melindungi bahan substrat grafit dan memurnikan lingkungan pertumbuhan.

Lapisan TaC tetap stabil pada suhu di atas 2000 °C, sedangkan lapisan SiC mulai terurai pada 1200-1400 °C, yang juga akan sangat meningkatkan integritas substrat grafit. Pelapis karbida Tantalum saat ini dibuat pada substrat grafit terutama oleh CVD, dan kapasitas produksi pelapis TaC akan lebih ditingkatkan untuk memenuhi permintaan perangkat daya SiC dan perangkat epitaksi GaNLED.

Sistem reaksi kimia yang digunakan untuk pengendapan lapisan tantalum karbida pada bahan karbon secara kimia deposisi uap (CVD) adalah TaCl5, C3H6, H2 dan Ar, dimana Ar digunakan sebagai pengencer dan gas pembawa.

Lapisan karbida Tantalum memainkan peran penting dalam proses epitaksi LED GaN dan perangkat daya SiC menggunakan MOCVD. Material canggih ini melindungi komponen penting, memastikan umur panjang dan kinerjanya dalam kondisi sulit yang terkait dengan manufaktur semikonduktor suhu tinggi.

Karena permintaan perangkat listrik SiC dan LED GaN terus meningkat, kapasitas produksi lapisan tantalum karbida akan meningkat. Produsen siap memenuhi kebutuhan industri yang terus meningkat, memfasilitasi evolusi teknologi suhu tinggi.

Kesimpulannya,pelapis tantalum karbidamewakili lompatan teknologi luar biasa dalam memastikan ketahanan dan keandalan material di lingkungan bersuhu tinggi. Ketika mereka terus merevolusi sektor semikonduktor dan elektronika daya, pelapis ini menegaskan status mereka sebagai elemen penting dari kemajuan teknologi tinggi modern.