Apa itu Etsa Plasma Suhu Rendah?

Plasma adalah materi keempat, dan memainkan peran penting baik dalam aplikasi industri maupun fenomena alam. Misalnya, plasma terdapat dalam petir dan dihasilkan secara melimpah di permukaan matahari, yang suhu intinya mencapai 13.500°C. Plasma bersuhu tinggi ini tidak cocok untuk sebagian besar proses produksi industri.

Di sisi lain, plasma suhu rendah adalah bentuk plasma buatan yang memanfaatkan energi, bukan panas, untuk mempercepat reaksi kimia. Temperaturnya biasanya berkisar dari suhu ruangan hingga beberapa ratus derajat Celcius, sehingga sangat efektif untuk berbagai aplikasi.

Langkah-langkah Menghasilkan Plasma Buatan:

1. Kurangi Tekanan di dalam Ruangan: Mulailah dengan menggunakan pompa vakum untuk menurunkan tekanan di dalam rongga. Mencapai tekanan rendah sangat penting untuk menstabilkan plasma dan memfasilitasi ionisasi gas.

2. Perkenalkan Gas Proses: Suntikkan gas proses tertentu ke dalam rongga. Gas-gas ini berfungsi sebagai sumber utama partikel dalam plasma.

3. Menggairahkan Plasma: Gunakan tenaga untuk mengionisasi gas, sehingga secara efektif membentuk plasma.

4. Nonaktifkan Plasma dan Kembalikan Tekanan Atmosfer: Setelah reaksi yang diinginkan selesai, matikan plasma dan kembalikan ruangan ke tekanan atmosfer.

Penerapan Plasma Suhu Rendah dalam Manufaktur Semikonduktor:

Plasma suhu rendah sangat diperlukan dalam manufaktur semikonduktor, karena memiliki fungsi penting dalam etsa kering, deposisi uap fisik (PVD), deposisi uap kimia (CVD), deposisi lapisan atom (ALD), implantasi ion, pengabuan, dan deteksi titik akhir. Fleksibilitas dan efisiensinya menjadikannya alat fundamental dalam industri.

Penawaran Semicorexsolusi berkualitas tinggi untuk etsa plasma. Jika Anda memiliki pertanyaan atau memerlukan detail tambahan, jangan ragu untuk menghubungi kami.

Hubungi telepon #+86-13567891907

Email: penjualan@semicorex.com