Berita

TSMC: produksi percobaan risiko proses 2nm tahun depan

Dalam laporan tahunan mereka yang baru dirilis, Ketua TSMC Deyin Liu dan CEO Chieh-Jia Wei mengungkapkan kemajuan terkait proses 2nm.

Skenario Aplikasi untuk Lapisan Epitaxial

Kita tahu bahwa lapisan epitaxial lebih lanjut perlu dibangun di atas beberapa substrat wafer untuk pembuatan perangkat, biasanya perangkat pemancar cahaya LED, yang membutuhkan lapisan epitaxial GaA di atas substrat silikon; Lapisan epitaxial SiC ditanam di atas substrat SiC konduktif untuk membang......

Membahas tungku CVD

China tetap menjadi pasar peralatan semikonduktor terbesar

Penjualan peralatan manufaktur semikonduktor di seluruh dunia meningkat 5 persen dari $102,6 miliar pada tahun 2021 menjadi rekor sepanjang masa sebesar $107,6 miliar tahun lalu, SEMI, asosiasi industri yang mewakili rantai pasokan manufaktur dan desain elektronik global.

Proses CVD untuk epitaksi wafer SiC

Proses CVD untuk epitaksi wafer SiC melibatkan pengendapan film SiC ke substrat SiC menggunakan reaksi fase gas. Gas prekursor SiC, biasanya methyltrichlorosilane (MTS) dan ethylene (C2H4), dimasukkan ke dalam ruang reaksi di mana substrat SiC dipanaskan hingga suhu tinggi (biasanya antara 1400 dan ......

Jepang baru-baru ini membatasi ekspor 23 jenis peralatan manufaktur semikonduktor

Jepang baru-baru ini membatasi ekspor 23 jenis peralatan manufaktur semikonduktor. Pengumuman tersebut telah mengirimkan riak ke seluruh industri, karena langkah tersebut diperkirakan akan berdampak signifikan pada rantai pasokan global untuk manufaktur semikonduktor.