- English
- Español
- Português
- русский
- Français
- 日本語
- Deutsch
- tiếng Việt
- Italiano
- Nederlands
- ภาษาไทย
- Polski
- 한국어
- Svenska
- magyar
- Malay
- বাংলা ভাষার
- Dansk
- Suomi
- हिन्दी
- Pilipino
- Türkçe
- Gaeilge
- العربية
- Indonesia
- Norsk
- تمل
- český
- ελληνικά
- український
- Javanese
- فارسی
- தமிழ்
- తెలుగు
- नेपाली
- Burmese
- български
- ລາວ
- Latine
- Қазақша
- Euskal
- Azərbaycan
- Slovenský jazyk
- Македонски
- Lietuvos
- Eesti Keel
- Română
- Slovenski
- मराठी
- Srpski језик
berita perusahaan
Proses Plasma dalam Operasi CVD
Deposisi Uap Kimia (CVD) mengacu pada teknologi proses di mana beberapa reaktan gas pada tekanan parsial yang bervariasi mengalami reaksi kimia pada kondisi suhu dan tekanan tertentu. Zat padat yang dihasilkan mengendap pada permukaan bahan substrat, sehingga diperoleh lapisan tipis yang diinginkan.......
Baca selengkapnya
Lapisan dan Substrat Epitaksi Silikon dalam Manufaktur Semikonduktor
Dalam bidang elektronik modern, optoelektronik, mikroelektronika, dan teknologi informasi, substrat semikonduktor dan teknologi epitaksi sangat diperlukan. Mereka memberikan landasan yang kuat untuk pembuatan perangkat semikonduktor berkinerja tinggi dan memiliki keandalan tinggi. Seiring dengan kem......
Baca selengkapnya
Perusahaan industrialisasi substrat Gallium Oksida 6 inci pertama
Baru-baru ini, perusahaan kami mengumumkan bahwa perusahaan telah berhasil mengembangkan kristal tunggal Gallium Oksida 6 inci menggunakan metode pengecoran, menjadi perusahaan industri dalam negeri pertama yang menguasai teknologi persiapan substrat kristal tunggal Gallium Oksida 6 inci.
Baca selengkapnya
Bahan isolasi medan termal
Proses pertumbuhan silikon monokristalin sebagian besar terjadi dalam medan termal, dimana kualitas lingkungan termal secara signifikan mempengaruhi kualitas kristal dan efisiensi pertumbuhan. Desain medan termal memainkan peran penting dalam membentuk gradien suhu dan dinamika aliran gas di dalam r......
Baca selengkapnya
