- English
- Español
- Português
- русский
- Français
- 日本語
- Deutsch
- tiếng Việt
- Italiano
- Nederlands
- ภาษาไทย
- Polski
- 한국어
- Svenska
- magyar
- Malay
- বাংলা ভাষার
- Dansk
- Suomi
- हिन्दी
- Pilipino
- Türkçe
- Gaeilge
- العربية
- Indonesia
- Norsk
- تمل
- český
- ελληνικά
- український
- Javanese
- فارسی
- தமிழ்
- తెలుగు
- नेपाली
- Burmese
- български
- ລາວ
- Latine
- Қазақша
- Euskal
- Azərbaycan
- Slovenský jazyk
- Македонски
- Lietuvos
- Eesti Keel
- Română
- Slovenski
- मराठी
- Srpski језик
berita perusahaan
Demistifikasi Teknologi Electrostatic Chuck (ESC) dalam Penanganan Wafer
Chuck elektrostatis (ESC) telah menjadi sangat diperlukan dalam manufaktur semikonduktor dan produksi layar panel datar, menawarkan metode yang bebas kerusakan dan sangat dapat dikontrol untuk menahan dan memposisikan wafer dan substrat halus selama langkah pemrosesan penting. Artikel ini menyelidik......
Baca selengkapnya
SiC Tebal CVD Kemurnian Tinggi: Wawasan Proses untuk Pertumbuhan Material
Lapisan silikon karbida (SiC) yang tebal dan memiliki kemurnian tinggi, biasanya melebihi 1 mm, merupakan komponen penting dalam berbagai aplikasi bernilai tinggi, termasuk fabrikasi semikonduktor dan teknologi ruang angkasa. Artikel ini mempelajari proses Deposisi Uap Kimia (CVD) untuk memproduksi ......
Baca selengkapnya
Memahami Deposisi Uap Kimia (CVD): Tinjauan Komprehensif
Deposisi Uap Kimia (CVD) adalah teknik deposisi film tipis serbaguna yang banyak digunakan dalam industri semikonduktor untuk membuat film tipis konformal berkualitas tinggi pada berbagai substrat. Proses ini melibatkan reaksi kimia dari prekursor gas ke permukaan substrat yang dipanaskan, menghasil......
Baca selengkapnya
Perahu SiC vs. Perahu Kuarsa: Penggunaan Saat Ini dan Tren Masa Depan dalam Manufaktur Semikonduktor
Artikel ini menyelidiki penggunaan dan lintasan kapal silikon karbida (SiC) di masa depan dalam kaitannya dengan kapal kuarsa dalam industri semikonduktor, yang secara khusus berfokus pada aplikasinya dalam pembuatan sel surya.
Baca selengkapnya
Wafer Epitaxial Gallium Nitrida: Pengantar Proses Fabrikasi
Pertumbuhan wafer epitaksi Gallium Nitrida (GaN) adalah proses yang kompleks, seringkali menggunakan metode dua langkah. Metode ini melibatkan beberapa tahapan penting, termasuk pemanggangan suhu tinggi, pertumbuhan lapisan penyangga, rekristalisasi, dan anil. Dengan mengontrol suhu secara cermat di......
Baca selengkapnya
