Semicorex memperkenalkan SiC Disc Susceptor, yang dirancang untuk meningkatkan kinerja peralatan Epitaxy, Metal-Organic Chemical Vapor Deposition (MOCVD), dan Rapid Thermal Processing (RTP). Susceptor Cakram SiC yang dirancang dengan cermat memberikan sifat yang menjamin kinerja, daya tahan, dan efisiensi unggul dalam lingkungan bersuhu tinggi dan vakum.**
Dengan komitmen mendalam terhadap kualitas dan inovasi, Susceptor Cakram SiC ultra-murni Semicorex menetapkan standar baru untuk kinerja pada peralatan epitaksi, MOCVD, dan RTP. Dengan menggabungkan ketahanan guncangan termal yang luar biasa, konduktivitas termal yang unggul, ketahanan kimia yang luar biasa, dan kemurnian ultra-tinggi, komponen rekayasa ini memberdayakan produsen semikonduktor untuk mencapai efisiensi, keandalan, dan kualitas produk yang tak tertandingi. Solusi Semicorex yang dapat disesuaikan semakin memastikan bahwa setiap aplikasi pemrosesan termal mendapat manfaat dari komponen rekayasa presisi dan optimal yang dirancang untuk memenuhi permintaan uniknya.
Ketahanan Guncangan Termal yang Luar Biasa:Susceptor Cakram SiC unggul dalam menahan fluktuasi suhu yang cepat, yang umum terjadi pada RTP dan proses suhu tinggi lainnya. Ketahanan guncangan termal yang luar biasa ini memastikan integritas struktural dan umur panjang, meminimalkan risiko kerusakan atau kegagalan akibat perubahan suhu mendadak dan meningkatkan keandalan peralatan pemrosesan termal.
Konduktivitas Termal Unggul:Perpindahan panas yang efisien sangat penting dalam aplikasi pemrosesan termal. Konduktivitas termal yang sangat baik dari SiC Disc Susceptor memastikan pemanasan dan pendinginan yang cepat dan seragam, penting untuk kontrol suhu yang tepat dan keseragaman proses. Hal ini mengarah pada peningkatan efisiensi proses, pengurangan waktu siklus, dan wafer semikonduktor berkualitas lebih tinggi.
Ketahanan Kimia yang Luar Biasa:Susceptor Cakram SiC memberikan ketahanan luar biasa terhadap berbagai bahan kimia korosif dan reaktif yang digunakan dalam proses epitaksi, MOCVD, dan RTP. Kelambanan kimia ini melindungi grafit yang mendasarinya dari degradasi, mencegah kontaminasi pada lingkungan proses, dan memastikan kinerja yang konsisten selama periode operasional yang lama.
Kemurnian Ultra Tinggi: Susceptor Cakram SiC diproduksi dengan standar kemurnian sangat tinggi baik untuk lapisan grafit maupun SiC, menghindari potensi kontaminasi dan memastikan produksi perangkat semikonduktor bebas cacat. Komitmen terhadap kemurnian berarti hasil yang lebih tinggi dan kinerja perangkat yang lebih baik.
Ketersediaan Bentuk Kompleks:Kemampuan manufaktur canggih di Semicorex memungkinkan produksi SiC Disc Susceptor dalam bentuk kompleks yang disesuaikan dengan kebutuhan pelanggan tertentu. Fleksibilitas ini memungkinkan perancangan solusi khusus yang memenuhi kebutuhan tepat berbagai aplikasi pemrosesan termal, sehingga meningkatkan efisiensi proses dan kompatibilitas peralatan.
Dapat Digunakan dalam Suasana Pengoksidasi:Lapisan SiC CVD yang kuat memberikan perlindungan yang sangat baik terhadap oksidasi, memungkinkan Susceptor Cakram SiC bekerja dengan andal dalam lingkungan oksidasi. Hal ini memperluas penerapannya pada proses termal yang lebih luas, memastikan keserbagunaan dan kemampuan beradaptasi.
Kinerja Kokoh dan Dapat Diulang:Dirancang untuk lingkungan bersuhu tinggi dan vakum, SiC Disc Susceptor menawarkan kinerja yang kuat dan berulang. Daya tahan dan konsistensinya menjadikannya ideal untuk aplikasi pemrosesan termal yang penting, mengurangi waktu henti, biaya pemeliharaan, dan memastikan keandalan operasional jangka panjang.
Semicorex mengkhususkan diri dalam menyesuaikan komponen berlapis CVD SiC untuk memenuhi beragam kebutuhan peralatan pemrosesan termal, termasuk:
Penyebar:Meningkatkan keseragaman distribusi gas dan konsistensi proses.
Isolator:Memberikan isolasi dan perlindungan termal di lingkungan bersuhu tinggi.
Komponen Termal Kustom Lainnya:Solusi khusus yang dirancang untuk memenuhi persyaratan proses tertentu dan mengoptimalkan kinerja peralatan.