Silikon Pada Wafer Insulator

Struktur wafer Silicon On Insulator terdiri dari tiga lapisan utama. Lapisan atas adalah film tipis silikon kristal tunggal, biasanya berkisar dari beberapa nanometer hingga beberapa mikrometer dengan ketebalan. Lapisan silikon tipis ini berfungsi sebagai daerah aktif tempat transistor dan komponen elektronik lainnya dibangun.

Di bawah lapisan tipis silikon terdapat lapisan bahan isolasi. Lapisan isolasi ini bertindak sebagai penghalang, mencegah aliran muatan listrik antara lapisan silikon tipis dan lapisan substrat.

Lapisan bawah adalah substrat, yang merupakan lapisan silikon kristal tunggal yang lebih tebal. Ini memberikan dukungan mekanis ke wafer dan juga berfungsi sebagai heat sink untuk menghilangkan panas yang dihasilkan.

Proses pembuatan wafer Silicon On Insulator melibatkan berbagai teknik, termasuk metode pengikatan wafer dan transfer lapisan. Teknik ini memungkinkan pembuatan lapisan silikon tipis berkualitas tinggi di atas lapisan isolasi.

Wafer Silicon On Insulator telah menjadi semakin penting dalam industri semikonduktor, khususnya dalam produksi mikroprosesor, perangkat memori, sirkuit RF, dan sistem komunikasi berkecepatan tinggi. Struktur dan kelebihannya yang unik menjadikannya pilihan yang lebih disukai untuk aplikasi elektronik tingkat lanjut, berkontribusi pada perangkat yang lebih cepat dan lebih efisien di berbagai bidang.