Semicorex Wafer Carrier untuk MOCVD, Dibuat untuk kebutuhan Deposisi Uap Kimia Organik Logam (MOCVD) yang tepat, muncul sebagai alat yang sangat diperlukan dalam pemrosesan Si atau SiC kristal tunggal untuk sirkuit terpadu skala tinggi. Komposisi Wafer Carrier untuk MOCVD menawarkan kemurnian yang tak tertandingi, ketahanan terhadap suhu tinggi dan lingkungan korosif, serta sifat penyegelan yang unggul untuk menjaga atmosfer murni. Kami di Semicorex berdedikasi untuk memproduksi dan memasok Wafer Carrier berkinerja tinggi untuk MOCVD yang memadukan kualitas dengan efisiensi biaya.
Semicorex Wafer Carrier untuk desain canggih MOCVD untuk aplikasi MOCVD bertindak sebagai fondasi yang aman, dirancang secara ahli untuk menopang wafer semikonduktor. Ia menawarkan desain optimal yang memastikan cengkeraman erat pada wafer sekaligus memfasilitasi distribusi gas yang optimal untuk pelapisan material yang seragam. Ditingkatkan dengan lapisan Silicon Carbide (SiC) melalui Deposisi Uap Kimia (CVD), Wafer Carrier untuk MOCVD menggabungkan ketahanan grafit dengan atribut CVD SiC yang tahan terhadap suhu tinggi, memiliki koefisien muai panas yang dapat diabaikan, dan mendorong dispersi panas yang merata. Keseimbangan ini sangat penting dalam menjaga integritas suhu permukaan wafer.
Dengan fitur-fitur seperti penghambatan korosi, ketahanan kimia, dan masa pakai operasional yang lebih lama, Wafer Carrier untuk MOCVD secara signifikan meningkatkan kaliber dan hasil wafer. Daya tahannya memberikan manfaat ekonomi langsung, memposisikan Wafer Carrier untuk MOCVD sebagai pilihan pengadaan yang bijaksana untuk operasi produksi semikonduktor Anda.
Dirancang dengan cermat untuk prosedur epitaksi wafer, Semicorex Wafer Carrier untuk MOCVD unggul dalam pengangkutan wafer yang aman dalam tungku bersuhu tinggi. Kerangkanya yang tahan lama memastikan wafer tetap utuh, sehingga mengurangi kecenderungan kerusakan selama tahap pertumbuhan epitaksi yang kritis.**