Tabung Tungku untuk LPCVD

Proses LPCVD adalah proses pengendapan film tipis yang dilakukan pada kondisi vakum tekanan rendah (biasanya berkisar antara 0,1 hingga 1 Torr). Kondisi pengoperasian vakum bertekanan rendah ini dapat membantu mendorong difusi gas prekursor yang seragam ke seluruh permukaan wafer, menjadikannya ideal untuk deposisi material yang tepat termasuk Si₃N₄, poli-Si, SiO₂, PSG, dan film logam tertentu seperti tungsten.

Tabung tungkuadalah komponen penting untuk LPCVD, yang berfungsi sebagai ruang pembuatan stabil untuk pemrosesan wafer LPCVD dan berkontribusi terhadap keseragaman film yang luar biasa, cakupan langkah yang luar biasa, dan kualitas film wafer semikonduktor yang tinggi.

Keunggulan tabung tungku Semicorex untuk LPCVD

1. Kinerja Penyegelan yang Andal

Tabung tungku semicorex untuk LPCVD diproduksi menggunakan teknologi pencetakan 3D, menampilkan struktur integral yang mulus. Struktur integral yang bebas kelemahan ini menghindari risiko jahitan dan kebocoran yang terkait dengan proses pengelasan atau perakitan tradisional, sehingga memastikan penyegelan proses yang lebih baik.  Tabung tungku semicorex untuk LPCVD sangat cocok untuk proses LPCVD bertekanan rendah dan bersuhu tinggi, yang secara signifikan dapat menghindari kebocoran gas proses dan intrusi udara luar.

2. Sifat termal yang sangat baik

Diproduksi dari bahan baku kelas semikonduktor berkualitas tinggi, tabung tungku Semicorex untuk LPCVD memiliki konduktivitas termal yang tinggi dan ketahanan guncangan termal yang sangat baik. Sifat termal yang luar biasa ini membuat tabung tungku Semicorex untuk LPCVD beroperasi secara stabil pada suhu berkisar antara 600 hingga 1100°C dan menyediakan distribusi suhu yang seragam untuk pemrosesan termal wafer berkualitas tinggi.

3. Kontrol kebersihan yang ketat

Semicorex mengontrol kebersihan tabung tungku mulai dari tahap pemilihan material. Penggunaan bahan baku dengan kemurnian tinggi memberikan tabung tungku Semicorex untuk LPCVD kandungan pengotor rendah yang tak tertandingi. Tingkat pengotor bahan matriks dikontrol di bawah 100 PPM dan bahan pelapis CVD SiC dijaga di bawah 1 PPM. Selain itu, setiap tabung tungku menjalani pemeriksaan kebersihan yang ketat sebelum pengiriman untuk mencegah kontaminasi pengotor selama proses LPCVD.

4. Perlindungan lapisan seragam dan padat

Melalui deposisi uap kimia, tabung tungku Semicorex untuk LPCVD ditutup rapat dengan lapisan SiC yang padat dan seragam. IniPelapis CVD SiCmenunjukkan daya rekat yang kuat, yang secara efektif mencegah risiko pengelupasan lapisan dan degradasi komponen bahkan ketika terkena suhu tinggi yang keras dan kondisi korosif.