Pemanas MOCVD

Pemanas ini dibuat menggunakan grafit dengan kemurnian tinggi, dengan tingkat pengotor dikontrol secara cermat hingga kurang dari 5 bagian per juta (ppm). Grafit tersebut kemudian dilapisi dengan silikon karbida (SiC) deposisi uap kimia (CVD), yang memiliki tingkat kemurnian melebihi 99,99995%. Kombinasi bahan ini memberi pemanas serangkaian sifat unik yang sangat diperlukan untuk mencapai kinerja optimal dalam proses deposisi uap kimia logam-organik (MOCVD).

Salah satu fitur paling luar biasa dari Pemanas Semicorex MOCVD adalah kemurnian kimianya yang luar biasa. Inti grafit dengan kemurnian tinggi secara signifikan meminimalkan masuknya kontaminan selama proses suhu tinggi, memastikan pengendapan film tipis yang sangat bersih. Lapisan CVD SiC semakin meningkatkan kemurnian ini, memberikan penghalang kuat terhadap interaksi kimia yang dapat membahayakan integritas lapisan yang diendapkan. Tingkat kemurnian kimia yang tinggi ini sangat penting untuk menghasilkan perangkat semikonduktor dengan kinerja dan keandalan yang unggul.

Selain itu, pemanas ini sangat kuat dan efisien secara termal, mampu menahan kondisi termal ekstrem yang biasa terjadi pada proses MOCVD. Sifat bawaan SiC, seperti titik leleh dan konduktivitas termal yang tinggi, berkontribusi pada kemampuan pemanas untuk mengelola dan mendistribusikan panas secara efisien. Efisiensi termal ini memastikan pemanasan seragam di seluruh substrat, yang penting untuk mencapai deposisi film yang homogen dan meminimalkan gradien termal yang dapat menyebabkan cacat.

Konduktivitas listrik adalah area lain di mana Pemanas MOCVD Semicorex unggul. Inti grafit dengan kemurnian tinggi memberikan konduktivitas listrik yang sangat baik, memungkinkan pemanas menangani beban listrik tinggi dengan mudah. Kemampuan ini sangat penting dalam proses MOCVD yang memerlukan kontrol presisi terhadap suhu dan laju pengendapan. Kemampuan pemanas untuk mempertahankan kinerja listrik yang stabil di bawah beban tinggi memastikan kondisi proses yang konsisten dan dapat direproduksi, yang sangat penting untuk manufaktur semikonduktor hasil tinggi.

Permukaan datar pemanas dirancang dengan cermat untuk memberikan emisivitas yang lebih tinggi terhadap substrat, sehingga meningkatkan efisiensi perpindahan panas radiasi. Fitur desain ini memastikan bahwa media menerima pemanasan yang seragam, yang sangat penting untuk menghasilkan film tipis berkualitas tinggi dengan ketebalan dan sifat yang konsisten. Permukaan dengan emisivitas tinggi juga berkontribusi terhadap efisiensi termal pemanas secara keseluruhan, mengurangi konsumsi energi dan biaya operasional.

Dalam hal daya tahan, Semicorex MOCVD Heater menawarkan ketahanan korosi yang luar biasa, tidak teroksidasi, dan kekuatan mekanik yang tinggi. Lapisan CVD SiC memberikan lapisan pelindung kuat yang tahan terhadap gas korosif dan bahan kimia yang biasa ditemui dalam proses MOCVD. Ketahanan terhadap korosi ini memperpanjang umur operasional pemanas, mengurangi biaya perawatan dan penggantian. Sifat pemanas yang tidak teroksidasi memastikan bahwa pemanas tetap stabil dan tidak rusak bahkan pada suhu tinggi, sehingga menjaga kinerja dan integritas strukturalnya selama periode operasional yang lama.

Terakhir, kekuatan mekanik pemanas yang tinggi memastikan pemanas dapat menahan tekanan fisik yang terkait dengan siklus termal dan penanganan substrat. Kekokohan ini meminimalkan risiko kegagalan mekanis, memastikan pengoperasian yang andal dan berkelanjutan.