Ada dua jenis epitaksi: homogen dan heterogen. Untuk menghasilkan perangkat SiC dengan resistansi spesifik dan parameter lain untuk aplikasi berbeda, substrat harus memenuhi kondisi epitaksi sebelum produksi dapat dimulai. Kualitas epitaksi mempengaruhi kinerja perangkat.
Baca selengkapnyaDalam fabrikasi semikonduktor, etsa adalah salah satu langkah utama, bersamaan dengan fotolitografi dan deposisi film tipis. Ini melibatkan menghilangkan bahan yang tidak diinginkan dari permukaan wafer menggunakan metode kimia atau fisik. Tahap ini dilakukan setelah pelapisan, fotolitografi, dan pe......
Baca selengkapnya