- English
- Español
- Português
- русский
- Français
- 日本語
- Deutsch
- tiếng Việt
- Italiano
- Nederlands
- ภาษาไทย
- Polski
- 한국어
- Svenska
- magyar
- Malay
- বাংলা ভাষার
- Dansk
- Suomi
- हिन्दी
- Pilipino
- Türkçe
- Gaeilge
- العربية
- Indonesia
- Norsk
- تمل
- český
- ελληνικά
- український
- Javanese
- فارسی
- தமிழ்
- తెలుగు
- नेपाली
- Burmese
- български
- ລາວ
- Latine
- Қазақша
- Euskal
- Azərbaycan
- Slovenský jazyk
- Македонски
- Lietuvos
- Eesti Keel
- Română
- Slovenski
- मराठी
- Srpski језик
Berita
Heteroepitaxy 3C-SiC: Suatu Tinjauan
Perkembangan 3C-SiC, suatu politipe silikon karbida yang signifikan, mencerminkan kemajuan berkelanjutan dalam ilmu material semikonduktor. Pada tahun 1980-an, Nishino dkk. pertama kali mencapai film 3C-SiC setebal 4 μm pada substrat silikon menggunakan deposisi uap kimia (CVD) [1], yang meletakkan ......
Baca selengkapnya
SiC Tebal CVD Kemurnian Tinggi: Wawasan Proses untuk Pertumbuhan Material
Lapisan silikon karbida (SiC) yang tebal dan memiliki kemurnian tinggi, biasanya melebihi 1 mm, merupakan komponen penting dalam berbagai aplikasi bernilai tinggi, termasuk fabrikasi semikonduktor dan teknologi ruang angkasa. Artikel ini mempelajari proses Deposisi Uap Kimia (CVD) untuk memproduksi ......
Baca selengkapnya
Silikon monokristalin vs. silikon polikristalin
Silikon kristal tunggal dan silikon polikristalin masing-masing memiliki keunggulan unik dan skenario yang dapat diterapkan. Silikon kristal tunggal cocok untuk produk elektronik dan mikroelektronika berkinerja tinggi karena sifat listrik dan mekaniknya yang sangat baik. Silikon polikristalin, sebal......
Baca selengkapnya
Substrat dan Epitaksi
Dalam proses penyiapan wafer, terdapat dua mata rantai inti: yang pertama adalah penyiapan substrat, dan yang lainnya adalah pelaksanaan proses epitaksial. Substrat, wafer yang dibuat dengan hati-hati dari bahan kristal tunggal semikonduktor, dapat langsung dimasukkan ke dalam proses pembuatan wafer......
Baca selengkapnya
Memahami Deposisi Uap Kimia (CVD): Tinjauan Komprehensif
Deposisi Uap Kimia (CVD) adalah teknik deposisi film tipis serbaguna yang banyak digunakan dalam industri semikonduktor untuk membuat film tipis konformal berkualitas tinggi pada berbagai substrat. Proses ini melibatkan reaksi kimia dari prekursor gas ke permukaan substrat yang dipanaskan, menghasil......
Baca selengkapnya
