Produk

View as

Pelat Pembawa Etsa PSS untuk Semikonduktor

Semicorex PSS Etching Carrier Plate for Semiconductor dirancang khusus untuk lingkungan pembersihan bahan kimia bersuhu tinggi dan keras yang diperlukan untuk pertumbuhan epitaxial dan proses penanganan wafer. Pelat Pembawa Etching PSS ultra-murni kami untuk Semikonduktor dirancang untuk mendukung wafer selama fase pengendapan film tipis seperti MOCVD dan susceptors epitaksi, panekuk atau platform satelit. Pembawa berlapis SiC kami memiliki ketahanan panas dan korosi yang tinggi, sifat distribusi panas yang sangat baik, dan konduktivitas termal yang tinggi. Kami menyediakan solusi hemat biaya untuk pelanggan kami, dan produk kami mencakup banyak pasar Eropa dan Amerika. Semicorex berharap dapat menjadi mitra jangka panjang Anda di China.

Baca selengkapnya mengirimkan permintaan

Pembawa Etching PSS Dilapisi SiC

Pembawa wafer yang digunakan dalam pertumbuhan epixial dan pemrosesan penanganan wafer harus tahan terhadap suhu tinggi dan pembersihan bahan kimia yang keras. Semicorex SiC Coated PSS Etching Carrier direkayasa khusus untuk aplikasi peralatan epitaksi yang menuntut ini. Produk kami memiliki keunggulan harga yang bagus dan mencakup banyak pasar Eropa dan Amerika. Kami berharap dapat menjadi mitra jangka panjang Anda di China.

Baca selengkapnya mengirimkan permintaan

SiC Coated Barrel Susceptor untuk Pertumbuhan LPE Epitaxial

Semicorex SiC Coated Barrel Susceptor for LPE Epitaxial Growth adalah produk berperforma tinggi yang dirancang untuk memberikan kinerja yang konsisten dan andal dalam jangka waktu lama. Profil termalnya yang rata, pola aliran gas laminar, dan pencegahan kontaminasi menjadikannya pilihan ideal untuk pertumbuhan lapisan epitaxial berkualitas tinggi pada chip wafer. Kemampuan penyesuaian dan efektivitas biaya menjadikannya produk yang sangat kompetitif di pasar.

Baca selengkapnya mengirimkan permintaan

Sistem Epi Susceptor Barrel untuk LPE Epitaxy

Semicorex Barrel Susceptor Epi System untuk LPE Epitaxy adalah produk berkualitas tinggi yang menawarkan daya rekat lapisan yang unggul, kemurnian tinggi, dan ketahanan oksidasi suhu tinggi. Profil termalnya yang rata, pola aliran gas laminar, dan pencegahan kontaminasi menjadikannya pilihan ideal untuk pertumbuhan lapisan epixial pada chip wafer. Efektivitas biaya dan kemampuan penyesuaiannya menjadikannya produk yang sangat kompetitif di pasar.

Baca selengkapnya mengirimkan permintaan

Sistem Reaktor Epitaksi Fase Cair (LPE).

Sistem Reaktor Semicorex Liquid Phase Epitaxy (LPE) adalah produk inovatif yang menawarkan kinerja termal yang sangat baik, bahkan profil termal, dan daya rekat lapisan yang unggul. Kemurnian tinggi, ketahanan oksidasi suhu tinggi, dan ketahanan korosi menjadikannya pilihan ideal untuk digunakan dalam industri semikonduktor. Opsi yang dapat disesuaikan dan efektivitas biaya menjadikannya produk yang sangat kompetitif di pasar.

Baca selengkapnya mengirimkan permintaan

Deposisi Epitaxial CVD Dalam Reaktor Barrel

Semicorex CVD Epitaxial Deposition In Barrel Reactor adalah produk yang sangat tahan lama dan andal untuk menumbuhkan lapisan epixial pada chip wafer. Ketahanan oksidasi suhu tinggi dan kemurnian tinggi membuatnya cocok untuk digunakan dalam industri semikonduktor. Profil termalnya yang rata, pola aliran gas laminar, dan pencegahan kontaminasi menjadikannya pilihan ideal untuk pertumbuhan lapisan epixial berkualitas tinggi.

Baca selengkapnya mengirimkan permintaan

<...40 41 42 43 44...46 >