Baki Pembawa Etsa PSS Semicorex untuk Pemrosesan Wafer dirancang khusus untuk aplikasi peralatan epitaksi yang menuntut. Pembawa grafit ultra-murni kami ideal untuk fase pengendapan film tipis seperti MOCVD, susceptors epitaksi, platform pancake atau satelit, dan pemrosesan penanganan wafer seperti etsa. Baki Pembawa Etching PSS untuk Pemrosesan Wafer memiliki ketahanan panas dan korosi yang tinggi, sifat distribusi panas yang sangat baik, dan konduktivitas termal yang tinggi. Produk kami hemat biaya dan memiliki keunggulan harga yang bagus. Kami melayani banyak pasar Eropa dan Amerika dan berharap dapat menjadi mitra jangka panjang Anda di China.
Baki Pembawa Pengetsaan PSS untuk Pemrosesan Wafer dari Semicorex dirancang untuk lingkungan keras yang diperlukan untuk proses pertumbuhan epitaxial dan penanganan wafer. Pembawa grafit ultra-murni kami dirancang untuk mendukung wafer selama fase pengendapan film tipis seperti MOCVD dan susceptors epitaksi, panekuk atau platform satelit. Pembawa berlapis SiC memiliki ketahanan panas dan korosi yang tinggi, sifat distribusi panas yang sangat baik, dan konduktivitas termal yang tinggi. Produk kami hemat biaya dan menawarkan keunggulan harga yang bagus.
Parameter Baki Pembawa Etsa PSS untuk Pemrosesan Wafer
Spesifikasi Utama Lapisan CVD-SIC |
||
Properti SiC-CVD |
||
Struktur kristal |
FCC β fase |
|
Kepadatan |
g/cm³ |
3.21 |
Kekerasan |
kekerasan Vickers |
2500 |
Ukuran butir |
μm |
2~10 |
Kemurnian Kimia |
% |
99.99995 |
Kapasitas Panas |
J·kg-1 ·K-1 |
640 |
Suhu Sublimasi |
℃ |
2700 |
Kekuatan Feleksural |
MPa (RT 4 titik) |
415 |
Modulus muda |
Gpa (tikungan 4pt, 1300â) |
430 |
Ekspansi Termal (C.T.E) |
10-6K-1 |
4.5 |
Konduktivitas termal |
(W/mK) |
300 |
Fitur Baki Pembawa Etsa PSS untuk Pemrosesan Wafer
- Hindari pengelupasan dan pastikan lapisan di semua permukaan
Ketahanan oksidasi suhu tinggi: Stabil pada suhu tinggi hingga 1600°C
Kemurnian tinggi: dibuat dengan pengendapan uap kimia CVD di bawah kondisi klorinasi suhu tinggi.
Ketahanan korosi: kekerasan tinggi, permukaan padat dan partikel halus.
Ketahanan korosi: asam, alkali, garam dan reagen organik.
- Mencapai pola aliran gas laminar terbaik
- Menjamin kemerataan profil termal
- Mencegah kontaminasi atau difusi kotoran