Kepala pancuran CVD dengan SiC Coat

Kepala pancuran Semicorex CVD dengan SiC Coat mewakili komponen canggih yang dirancang untuk presisi dalam aplikasi industri, terutama dalam bidang deposisi uap kimia (CVD) dan deposisi uap kimia yang ditingkatkan plasma (PECVD). Berfungsi sebagai saluran penting untuk pengiriman gas prekursor atau spesies reaktif, kepala pancuran CVD khusus dengan SiC Coat ini memfasilitasi pengendapan material secara tepat ke permukaan substrat, yang merupakan bagian integral dari proses manufaktur canggih ini.

mengirimkan permintaan

Deskripsi Produk

Dibangun dari grafit dengan kemurnian tinggi dan dibungkus dalam lapisan SiC tipis melalui metode CVD, kepala pancuran CVD dengan SiC Coat memadukan atribut keunggulan grafit dan SiC. Sinergi ini menghasilkan komponen yang tidak hanya unggul dalam memastikan distribusi gas yang konsisten dan akurat namun juga memiliki ketahanan luar biasa terhadap kekerasan termal dan kimia yang sering ditemui di lingkungan pengendapan.

Kunci dari fungsi kepala pancuran CVD dengan SiC Coat adalah kemampuannya dalam menyebarkan gas prekursor secara merata ke seluruh permukaan substrat, tugas ini dicapai dengan penempatannya yang strategis di atas substrat dan desain lubang kecil atau nozel yang cermat yang menonjol di permukaannya. Distribusi yang seragam ini sangat penting untuk mencapai hasil pengendapan yang konsisten.

Pemilihan SiC sebagai bahan pelapis kepala pancuran CVD dengan SiC Coat tidak sembarangan, namun dilatarbelakangi oleh konduktivitas termal dan stabilitas kimianya yang unggul. Sifat-sifat ini penting untuk mengurangi akumulasi panas selama proses pengendapan dan menjaga suhu merata di seluruh substrat, selain memberikan pertahanan yang kuat terhadap gas korosif dan kondisi keras yang menjadi ciri proses CVD.

Disesuaikan untuk memenuhi permintaan spesifik dari berbagai sistem CVD dan persyaratan proses, desain kepala pancuran CVD dengan SiC Coat mencakup bentuk pelat atau cakram yang dilengkapi dengan rangkaian lubang atau slot yang dihitung dengan cermat. kepala pancuran CVD dengan desain SiC Coat memastikan tidak hanya distribusi gas yang seragam tetapi juga laju aliran optimal yang penting untuk proses pengendapan, menyoroti peran komponen sebagai kunci utama dalam mencapai presisi dan keseragaman dalam proses pengendapan material.