Pancuran CVD-SiC

Kepala pancuran CVD-SiC Semicorex memberikan daya tahan, manajemen termal yang sangat baik, dan ketahanan terhadap degradasi bahan kimia, menjadikannya pilihan yang cocok untuk proses CVD yang menuntut di industri semikonduktor. Semicorex berkomitmen untuk menyediakan produk berkualitas dengan harga bersaing, kami berharap dapat menjadi mitra jangka panjang Anda di China.

mengirimkan permintaan

Deskripsi Produk

Dalam konteks showerhead CVD, showerhead CVD-SiC biasanya dirancang untuk mendistribusikan gas prekursor secara merata di atas permukaan substrat selama proses CVD. Pancuran biasanya diposisikan di atas substrat, dan gas prekursor mengalir melalui lubang kecil atau nosel di permukaannya.

Bahan CVD-SiC yang digunakan di kepala pancuran menawarkan beberapa keunggulan. Konduktivitas termalnya yang tinggi membantu menghilangkan panas yang dihasilkan selama proses CVD, memastikan distribusi suhu yang seragam di seluruh substrat. Selain itu, stabilitas kimia SiC memungkinkannya menahan gas korosif dan lingkungan keras yang biasa ditemui dalam proses CVD.

Desain showerhead CVD-SiC dapat bervariasi tergantung pada sistem CVD spesifik dan persyaratan proses. Namun, biasanya terdiri dari komponen berbentuk pelat atau cakram dengan susunan lubang atau slot yang dibor secara presisi. Pola lubang dan geometri direkayasa dengan hati-hati untuk memastikan distribusi gas dan laju aliran yang seragam di seluruh permukaan substrat.