Pancuran CVD-SiC

Pancuran Semicorex CVD-SiC memberikan daya tahan, manajemen termal yang sangat baik, dan ketahanan terhadap degradasi bahan kimia, menjadikannya pilihan yang cocok untuk proses CVD yang menuntut di industri semikonduktor. Semicorex berkomitmen untuk menyediakan produk berkualitas dengan harga bersaing, kami berharap dapat menjadi mitra jangka panjang Anda di China.

mengirimkan permintaan

Deskripsi Produk

Dalam konteks pancuran CVD, pancuran CVD-SiC biasanya dirancang untuk mendistribusikan gas prekursor secara merata ke permukaan substrat selama proses CVD. Pancuran biasanya ditempatkan di atas substrat, dan gas prekursor mengalir melalui lubang kecil atau nozel di permukaannya.

Bahan CVD-SiC yang digunakan pada showerhead menawarkan beberapa keunggulan. Konduktivitas termalnya yang tinggi membantu menghilangkan panas yang dihasilkan selama proses CVD, memastikan distribusi suhu yang seragam di seluruh substrat. Selain itu, stabilitas kimia SiC memungkinkannya tahan terhadap gas korosif dan lingkungan keras yang biasa ditemui dalam proses CVD.

Desain pancuran CVD-SiC dapat bervariasi tergantung pada sistem CVD spesifik dan persyaratan proses. Namun, biasanya terdiri dari komponen berbentuk pelat atau cakram dengan serangkaian lubang atau slot yang dibor secara presisi. Pola dan geometri lubang dirancang dengan cermat untuk memastikan distribusi gas dan laju aliran yang seragam di seluruh permukaan substrat.