Kepala Pancuran Grafit Dilapisi SiC CVD

Dalam peralatan plasma untuk etsa dan pengendapan uap kimia (CVD) bahan pada wafer, gas proses disuplai ke ruang proses melalui kepala pancuran grafit berlapis CVD SiC. Semicorex berkomitmen untuk menyediakan produk berkualitas dengan harga bersaing, kami berharap dapat menjadi mitra jangka panjang Anda di China.

mengirimkan permintaan

Deskripsi Produk

Kepala pancuran grafit berlapis Semicorex CVD SiC (Chemical Vapour Deposition Silicon Carbide) adalah komponen khusus yang digunakan dalam berbagai proses industri, seperti deposisi uap kimia (CVD) dan deposisi uap kimia yang ditingkatkan plasma (PECVD). Ia memainkan peranan penting dalam menyalurkan gas prekursor atau spesies reaktif ke permukaan substrat selama proses pengendapan ini.

Kepala pancuran grafit berlapis SiC CVD terbuat dari grafit dengan kemurnian tinggi dan dilapisi dengan lapisan tipis SiC dengan metode CVD. Kepala pancuran grafit berlapis SiC CVD menggabungkan sifat menguntungkan dari grafit dan SiC, menjadikannya komponen penting dalam berbagai proses pengendapan yang memerlukan distribusi gas yang tepat dan seragam, serta ketahanan terhadap suhu tinggi dan lingkungan kimia.

Fitur:

Ketahanan terhadap bahan kimia

Stabilitas termal

Permukaan halus dan seragam

Mengurangi kontaminasi