Susceptor Wafer Silikon Monokristalin

Semicorex Monocrystalline Silicon Wafer Susceptor adalah solusi ideal untuk proses epitaksi grafit dan penanganan wafer. Produk ultra-murni kami memastikan kontaminasi minimal dan kinerja umur panjang yang luar biasa, menjadikannya pilihan populer di banyak pasar Eropa dan Amerika. Sebagai penyedia pembawa wafer semikonduktor terkemuka di Tiongkok, kami berharap dapat menjadi mitra jangka panjang Anda.

mengirimkan permintaan

Deskripsi Produk

Monocrystalline Silicon epitaxial Susceptor kami adalah produk grafit yang dilapisi dengan SiC dengan kemurnian tinggi, yang memiliki ketahanan panas dan korosi yang tinggi. Pembawa berlapis silikon karbida CVD digunakan dalam proses yang membentuk lapisan epitaxial pada wafer semikonduktor. Ini memiliki konduktivitas termal yang tinggi dan sifat distribusi panas yang sangat baik, yang penting untuk proses pembuatan semikonduktor yang efisien dan tepat.
Salah satu fitur utama dari Monocrystalline Silicon Wafer Susceptor kami adalah densitasnya yang luar biasa. Substrat grafit dan lapisan silikon karbida memiliki kepadatan yang baik dan dapat memainkan peran perlindungan yang baik di lingkungan kerja yang korosif dan bersuhu tinggi. Susceptor berlapis silikon karbida yang digunakan untuk pertumbuhan kristal tunggal memiliki kerataan permukaan yang sangat tinggi, yang penting untuk mempertahankan produksi wafer berkualitas tinggi.
Fitur penting lainnya dari produk kami adalah kemampuannya untuk mengurangi perbedaan koefisien ekspansi termal antara substrat grafit dan lapisan silikon karbida. Ini secara efektif meningkatkan kekuatan ikatan, mencegah retak dan delaminasi. Selain itu, substrat grafit dan lapisan silikon karbida memiliki konduktivitas termal yang tinggi dan sifat distribusi panas yang sangat baik, memastikan bahwa panas didistribusikan secara merata selama proses pembuatan.
Susceptor Wafer Silikon Monokristalin kami juga tahan terhadap oksidasi dan korosi suhu tinggi, menjadikannya produk yang andal dan tahan lama. Titik leburnya yang tinggi memastikan bahwa ia dapat menahan lingkungan bersuhu tinggi yang diperlukan untuk pembuatan semikonduktor yang efisien.
Kesimpulannya, Semicorex Monocrystalline Silicon Wafer Susceptor adalah solusi yang sangat murni, tahan lama, dan andal untuk proses epitaksi dan wafer grafit. Kepadatan yang sangat baik, kerataan permukaan, dan konduktivitas termal membuatnya ideal untuk digunakan di lingkungan bersuhu tinggi dan korosif. Kami bangga menyediakan produk berkualitas tinggi dengan harga bersaing dan berharap dapat bermitra dengan Anda untuk semua kebutuhan pembawa wafer semikonduktor Anda.

Parameter Susceptor Wafer Silikon Monokristalin

Spesifikasi Utama Lapisan CVD-SIC
Properti SiC-CVD
Struktur kristal	FCC Î² fase
Kepadatan	g/cm³	3.21
Kekerasan	kekerasan Vickers	2500
Ukuran butir	Î¼m	2~10
Kemurnian Kimia	%	99.99995
Kapasitas Panas	J·kg-1 ·K-1	640
Suhu Sublimasi	℃	2700
Kekuatan Feleksural	MPa (RT 4 titik)	415
Modulus muda	Gpa (tikungan 4pt, 1300â)	430
Ekspansi Termal (C.T.E)	10-6K-1	4.5
Konduktivitas termal	(W/mK)	300

Fitur Susceptor Wafer Silikon Monokristalin

- Hindari pengelupasan dan pastikan lapisan di semua permukaan
Ketahanan oksidasi suhu tinggi: Stabil pada suhu tinggi hingga 1600°C
Kemurnian tinggi: dibuat dengan pengendapan uap kimia CVD di bawah kondisi klorinasi suhu tinggi.
Ketahanan korosi: kekerasan tinggi, permukaan padat dan partikel halus.
Ketahanan korosi: asam, alkali, garam dan reagen organik.
- Mencapai pola aliran gas laminar terbaik
- Menjamin kemerataan profil termal
- Mencegah kontaminasi atau difusi kotoran