Susceptor Epi Silikon Kristal Tunggal adalah komponen penting yang dirancang untuk proses epitaksi Si-GaN, yang dapat disesuaikan dengan spesifikasi dan preferensi individual, memberikan solusi khusus yang selaras dengan kebutuhan spesifik. Baik itu memerlukan modifikasi dimensi atau penyesuaian ketebalan lapisan, kami memiliki kemampuan untuk merancang dan menghasilkan produk yang mengakomodasi beragam parameter proses, sehingga mengoptimalkan kinerja untuk aplikasi yang ditargetkan. Komitmen Semicorex terhadap kualitas terdepan di pasar, dipadukan dengan pertimbangan fiskal yang kompetitif, memperkuat keinginan kami untuk menjalin kemitraan dalam memenuhi kebutuhan pengangkutan wafer semikonduktor Anda.
Susceptor dalam pemrosesan pertumbuhan epitaksi memerlukan kemampuan untuk menahan suhu tinggi dan menjalani prosedur pembersihan kimiawi yang ketat. Susceptor Epi Silikon Kristal Tunggal telah dirancang dengan cermat untuk memenuhi secara khusus permintaan mendesak yang dihadapi dalam aplikasi peralatan epitaksi.
Susceptor ini memiliki konstruksi yang terdiri dari grafit berlapis silikon karbida (SiC) dengan kemurnian tinggi, yang memberikan ketahanan tak tertandingi terhadap panas, memastikan distribusi termal yang seragam untuk ketebalan dan ketahanan lapisan epitaksi yang konsisten.
Selain itu, Susceptor Epi Silikon Kristal Tunggal menunjukkan daya tahan yang luar biasa terhadap bahan pembersih kimia yang keras. Pemanfaatan lapisan kristal SiC yang halus selanjutnya berkontribusi pada permukaan yang murni dan halus, yang sangat penting untuk penanganan yang efektif, karena wafer yang tidak ternoda bersentuhan dengan susceptor di berbagai titik di seluruh area permukaannya.
Pemanfaatan Susceptor Epi Silikon Kristal Tunggal memastikan keandalan yang tak tergoyahkan dan masa pakai yang lebih lama, mengurangi kebutuhan akan penggantian yang sering dan selanjutnya meminimalkan waktu henti dan biaya pemeliharaan. Konstruksinya yang kokoh dan kemampuan operasional yang luar biasa berkontribusi secara signifikan terhadap peningkatan efisiensi proses, yang pada akhirnya meningkatkan produktivitas dan efektivitas biaya dalam bidang operasi manufaktur semikonduktor.