Grafitisasi adalah proses mengubah arang non-grafit menjadi arang grafit dengan struktur teratur tiga dimensi grafit melalui perlakuan panas suhu tinggi, memanfaatkan panas hambatan listrik untuk memanaskan bahan arang hingga 2300~3000 ℃, dan mengubah arang dengan struktur lapisan amorf yang kacau m......
Baca selengkapnyaBagian yang dilapisi dalam medan panas kristal tunggal silikon semikonduktor umumnya dilapisi dengan metode CVD, termasuk pelapisan karbon pirolitik, pelapisan Silicon Carbide dan pelapisan Tantalum Carbide, masing-masing dengan karakteristik yang berbeda.
Baca selengkapnyaGraphite Boat, berdiri di garis depan inovasi teknologi di industrinya, menampilkan serangkaian kemajuan inovatif yang dirancang untuk meningkatkan kinerja, kemurnian, dan masa pakai. Di bawah ini, kami mempelajari teknologi inti yang menentukan keunggulan perahu grafit:
Baca selengkapnyaSilicon Carbide (SiC) telah muncul sebagai material utama dalam bidang teknologi semikonduktor, menawarkan sifat luar biasa yang membuatnya sangat diminati untuk berbagai aplikasi elektronik dan optoelektronik. Produksi kristal tunggal SiC berkualitas tinggi sangat penting untuk meningkatkan kemampu......
Baca selengkapnyaEmpat metode pencetakan utama untuk pencetakan grafit adalah: pencetakan ekstrusi, pencetakan, pencetakan getaran, dan pencetakan isostatik. Sebagian besar bahan karbon/grafit yang umum di pasaran dicetak dengan ekstrusi dan pencetakan panas (dingin atau panas), dan pencetakan isostatik adalah metod......
Baca selengkapnyaGrafit khusus adalah grafit dengan fraksi massa karbon lebih besar dari 99,99%, juga dikenal sebagai "tiga grafit tinggi" (kekuatan tinggi, kepadatan tinggi, kemurnian tinggi). Hal ini ditandai dengan kekuatan tinggi, kepadatan tinggi, kemurnian tinggi, stabilitas kimia tinggi, konduktivitas termal ......
Baca selengkapnya