Pembawa SiC Coated Semicorex untuk Sistem Etsa Plasma ICP adalah solusi yang andal dan hemat biaya untuk proses penanganan wafer suhu tinggi seperti epitaksi dan MOCVD. Operator kami dilengkapi lapisan kristal SiC halus yang memberikan ketahanan panas unggul, bahkan keseragaman termal, dan ketahanan kimia yang tahan lama.
Baca selengkapnyamengirimkan permintaanSusceptor berlapis silikon karbida Semicorex untuk Induktif-Coupled Plasma (ICP) dirancang khusus untuk proses penanganan wafer suhu tinggi seperti epitaksi dan MOCVD. Dengan ketahanan oksidasi suhu tinggi yang stabil hingga 1600°C, operator kami memastikan profil termal yang merata, pola aliran gas laminar, dan mencegah difusi kontaminasi atau kotoran.
Baca selengkapnyamengirimkan permintaanTempat wafer etsa ICP Semicorex adalah solusi sempurna untuk proses penanganan wafer suhu tinggi seperti epitaksi dan MOCVD. Dengan ketahanan oksidasi suhu tinggi yang stabil hingga 1600°C, operator kami memastikan profil termal yang merata, pola aliran gas laminar, dan mencegah difusi kontaminasi atau kotoran.
Baca selengkapnyamengirimkan permintaanPelat Pembawa Etsa ICP Semicorex adalah solusi sempurna untuk penanganan wafer dan proses pengendapan film tipis yang menuntut. Produk kami memberikan ketahanan panas dan korosi yang unggul, bahkan keseragaman termal, dan pola aliran gas laminar. Dengan permukaan yang bersih dan halus, wadah kami sempurna untuk menangani wafer murni.
Baca selengkapnyamengirimkan permintaanTempat Wafer Semicorex untuk Proses Etsa ICP adalah pilihan sempurna untuk penanganan wafer dan proses pengendapan film tipis yang menuntut. Produk kami menawarkan ketahanan panas dan korosi yang unggul, bahkan keseragaman termal, dan pola aliran gas laminar yang optimal untuk hasil yang konsisten dan andal.
Baca selengkapnyamengirimkan permintaanICP Silicon Carbon Coated Graphite dari Semicorex adalah pilihan ideal untuk penanganan wafer yang berat dan proses pengendapan film tipis. Produk kami menawarkan ketahanan panas dan korosi yang unggul, bahkan keseragaman termal, dan pola aliran gas laminar yang optimal.
Baca selengkapnyamengirimkan permintaan