Pelat Planet Berlapis TaC

Pelat Planet Berlapis Semicorex TaC berfungsi sebagai komponen kunci dalam reaktor MOCVD, memperlihatkan desain planet yang ditandai dengan banyak kantong wafer yang tersusun di sepanjang permukaannya. Kantong-kantong ini dibuat khusus untuk mengakomodasi wafer selama fase pertumbuhan lapisan epitaksial, menstabilkan wafer substrat dan meminimalkan pergerakan substrat di bawah suhu proses yang tinggi. Geometri saku yang tepat memberikan penempatan wafer yang konsisten yang penting untuk ketebalan lapisan epitaksial yang seragam dan tingkat keseragaman cacat substrat untuk semua wafer yang ditumbuhkan selama proses yang sama.

Aspek desain penting dari pelat planet, sekali lagi, adalah rekayasa dispersi lubang aliran gas halus di sepanjang permukaan pelat. Lubang-lubang ini dirancang secara hati-hati dan ditempatkan secara strategis secara khusus untuk mengukur aliran gas prekursor di dalam reaktor, sehingga dispersi dan deposisi gas yang seragam dapat dicapai di antara setiap wafer. Dalam setiap proses MOCVD, aspek dinamika gas sangat penting dalam menentukan kualitas film, keseragaman ketebalan, dan kinerja perangkat secara keseluruhan. Desain lubang yang dioptimalkan padaDilapisi TaCPlanetary Plate memastikan bahwa semua wafer mengalami kondisi proses yang sama, sehingga memberikan cara optimal untuk meningkatkan hasil dan reproduktifitas.

ItuLapisan TaC (tantalum karbida).Aspek desain penting dari pelat planet, sekali lagi, adalah rekayasa dispersi lubang aliran gas halus di sepanjang permukaan pelat. Lubang-lubang ini dirancang secara hati-hati dan ditempatkan secara strategis secara khusus untuk mengukur aliran gas prekursor di dalam reaktor, sehingga dispersi dan deposisi gas yang seragam dapat dicapai di antara setiap wafer. Dalam setiap proses MOCVD, aspek dinamika gas sangat penting dalam menentukan kualitas film, keseragaman ketebalan, dan kinerja perangkat secara keseluruhan. Desain lubang yang dioptimalkan pada

Umur panjang dan daya tahan Pelat Planet Berlapis TaC menjadikannya pilihan hemat biaya untuk sistem MOCVD. Lapisan TaC yang tahan lama dapat menahan siklus termal berulang dan paparan gas proses ekstrem sekaligus menjaga integritas struktural dan stabilitas kinerja saat beroperasi dalam jangka waktu yang lama.