Tabung Dilapisi TaC

Semicorex TaC Coated Tube mewakili puncak ilmu material, dirancang untuk tahan terhadap kondisi ekstrem yang dihadapi dalam fabrikasi semikonduktor tingkat lanjut. Dibuat dengan menerapkan lapisan TaC yang padat dan seragam ke substrat grafit isotropik dengan kemurnian tinggi melalui Deposisi Uap Kimia (CVD), Tabung Berlapis TaC menawarkan kombinasi sifat menarik yang melampaui bahan konvensional dalam menuntut suhu tinggi dan lingkungan yang agresif secara kimia. **

mengirimkan permintaan

Deskripsi Produk

Kekuatan Tabung Dilapisi Semicorex TaC terletak pada kombinasi sinergis bahan dasar dan lapisan khusus:

Yayasan Grafit Isotropik Kemurnian Tinggi:Inti dari TaC Coated Tube dibentuk dari grafit isotropik dengan kemurnian sangat tinggi, yang terkenal dengan konduktivitas termal yang sangat baik, ekspansi termal yang rendah, dan ketahanan yang melekat terhadap guncangan termal. Fondasi ini menyediakan platform yang kokoh dan stabil yang mampu menahan fluktuasi suhu yang cepat dan karakteristik beban termal tinggi dari pemrosesan semikonduktor.

Tantalum Karbida---Perisai Daya Tahan dan Kelambanan:Lapisan TaC yang diaplikasikan CVD mengubah substrat grafit, menghasilkan kekerasan, ketahanan aus, dan kelembaman kimia yang luar biasa. Lapisan pelindung ini bertindak sebagai penghalang terhadap gas agresif, plasma, dan spesies reaktif yang ditemui selama fabrikasi semikonduktor, sehingga memastikan integritas struktural dan umur panjang tabung.

Kombinasi material unik ini menghasilkan serangkaian keunggulan yang sangat penting untuk manufaktur semikonduktor tingkat lanjut:

Ketahanan Suhu Tak Tertandingi:TaC memiliki salah satu titik leleh tertinggi dari semua bahan yang diketahui, bahkan melebihi silikon karbida (SiC). Ketahanan suhu ekstrem ini memungkinkan TaC Coated Tube beroperasi dengan andal dalam proses yang membutuhkan suhu melebihi 2500°C, memungkinkan produksi perangkat semikonduktor generasi berikutnya dengan anggaran termal yang menuntut.

Kemurnian Ultra Tinggi untuk Kontrol Proses Kritis:Mempertahankan lingkungan proses yang murni adalah hal terpenting dalam fabrikasi semikonduktor. Penggunaan grafit dengan kemurnian tinggi dan proses pelapisan CVD yang cermat memastikan pelepasan gas atau partikulat yang minimal dari Tabung Dilapisi TaC, mencegah kontaminasi yang dapat membahayakan permukaan wafer sensitif dan kinerja perangkat.

Ketahanan Terhadap Bahan Kimia yang Tak Tergoyahkan:Kelambanan kimia dari TaC Coated Tube memberikan ketahanan luar biasa terhadap berbagai gas korosif, ion reaktif, dan lingkungan plasma yang biasa digunakan dalam proses semikonduktor seperti etsa, deposisi, dan anil. Stabilitas kimia yang kuat ini berarti umur tabung yang lebih panjang, kebutuhan perawatan yang lebih rendah, dan biaya kepemilikan keseluruhan yang lebih rendah.

Peningkatan Daya Tahan Mekanis untuk Masa Pakai yang Lebih Lama:Kekuatan ikatan yang kuat antara lapisan TaC dan substrat grafit, ditambah dengan kekerasan yang melekat pada Tabung Dilapisi TaC, memberikan ketahanan luar biasa terhadap keausan, erosi, dan tekanan mekanis. Peningkatan daya tahan ini menghasilkan masa pakai yang lebih lama dan mengurangi waktu henti untuk penggantian, sehingga meningkatkan efisiensi proses dan hasil.