Lapisan TaC Halfmoon Atas

Semicorex TaC Coating Upper Halfmoon adalah komponen yang dirancang khusus untuk mencapai proses epitaxial efisiensi tinggi dalam bidang produksi semikonduktor. Bagian Upper Halfmoon TaC Coating dirancang agar cocok dengan reaktor epitaxial, memberikan daya tahan dan stabilitas luar biasa dalam kondisi ekstrim.

Lapisan TaC menawarkan ketahanan yang sangat baik terhadap suhu tinggi, menjadikan TaC Coating Upper Halfmoon ideal untuk lingkungan termal yang menuntut proses epitaksi. Hal ini memastikan kinerja yang konsisten dan umur panjang, mengurangi frekuensi penggantian dan waktu henti. Halfmoon Atas Lapisan TaC dapat menahan gas korosif dan bahan kimia yang biasa digunakan dalam pertumbuhan epitaksi, melindungi integritas komponen dan menjaga kemurnian proses.

Lapisan TaC yang halus dan seragam meningkatkan kualitas lapisan epitaksial dengan meminimalkan cacat dan kotoran. Hal ini berkontribusi pada tingkat hasil yang lebih tinggi dan sifat elektronik yang unggul dari perangkat semikonduktor. Kombinasi ketahanan termal dan kimia memperpanjang umur operasional TaC Coating Upper Halfmoon, memberikan solusi hemat biaya untuk mempertahankan throughput tinggi dan efisiensi dalam fabrikasi semikonduktor.

Aplikasi:

Proses Deposisi Uap Kimia (CVD) Suhu Tinggi

Epitaksi Silikon Karbida (SiC) dan Gallium Nitrida (GaN).

Spesifikasi Teknis:

Bahan: Lapisan Tantalum Carbide (TaC).

Kisaran Suhu: Hingga 2200 °C

Ketahanan Kimia: Sangat baik terhadap HF, HCl, dan gas korosif lainnya

Dimensi: Dapat disesuaikan agar sesuai dengan model reaktor tertentu

Semicorex TaC Coating Upper Halfmoon adalah komponen penting untuk mencapai lapisan epitaksi berkualitas tinggi dengan peningkatan efisiensi dan pengurangan risiko kontaminasi. Sifat materialnya yang canggih dan rekayasa presisi menjadikannya aset berharga dalam industri semikonduktor, mendukung produksi perangkat elektronik generasi berikutnya.