Bagian Halfmoon Lapisan Tantalum Karbida

Semicorex Tantalum Carbide Coating Halfmoon Part adalah komponen yang sangat terspesialisasi yang ditujukan untuk aplikasi dalam proses pengendapan epitaksi. Bagian Halfmoon berlapis Tantalum Karbida ini sangat penting dalam lingkungan yang memerlukan ketahanan terhadap suhu tinggi, daya tahan luar biasa, dan kelembaman bahan kimia yang tak tertandingi.

Bagian Halfmoon Lapisan Karbida Tantalum dibuat dari karbida tantalum dengan kemurnian tinggi, menawarkan konduktivitas termal yang sangat baik dan ketahanan ekstrem terhadap suhu tinggi dan guncangan termal. Lapisan TaC memberikan lapisan perlindungan tambahan terhadap bahan kimia korosif dan lingkungan keras yang biasa terjadi pada reaktor epitaksi. Lapisan ini meningkatkan daya tahan dan masa pakai komponen, memastikan kinerja yang konsisten selama beberapa siklus.

Tantalum Carbide Coating Halfmoon Part mampu menahan suhu hingga 2200°C, sehingga ideal untuk proses bersuhu tinggi. Menunjukkan reaktivitas rendah dengan silikon dan bahan semikonduktor lainnya, menjaga integritas lapisan epitaksi.

Tantalum Carbide Coating Halfmoon Part terutama digunakan dalam industri semikonduktor, khususnya dalam pertumbuhan epitaksi silikon karbida. Cocok untuk digunakan dalam reaktor epitaksi skala penelitian dan industri.