Cina Pembawa Etsa ICP Produsen, Pemasok, Pabrik

Anda dapat yakin untuk membeli Pembawa Etsa ICP dari pabrik kami dan kami akan menawarkan layanan purna jual terbaik dan pengiriman tepat waktu. Susceptor wafer semicorex terbuat dari grafit berlapis silikon karbida menggunakan proses deposisi uap kimia (CVD). Bahan ini memiliki sifat unik, termasuk ketahanan terhadap suhu dan bahan kimia yang tinggi, ketahanan aus yang sangat baik, konduktivitas termal yang tinggi, serta kekuatan dan kekakuan yang tinggi. Sifat-sifat ini menjadikannya bahan yang menarik untuk berbagai aplikasi suhu tinggi, termasuk sistem Etsa Plasma Berpasangan Induktif (ICP).

Kami menyediakan layanan khusus, membantu Anda berinovasi dengan komponen yang bertahan lebih lama, mengurangi waktu siklus, dan meningkatkan hasil.

View as

Lapisan SiC Suhu Tinggi untuk Ruang Etch Plasma

Dalam hal proses penanganan wafer seperti epitaksi dan MOCVD, Lapisan SiC Suhu Tinggi Semicorex untuk Ruang Etch Plasma adalah pilihan utama. Operator kami memberikan ketahanan panas yang unggul, bahkan keseragaman termal, dan ketahanan kimia yang tahan lama berkat lapisan kristal SiC kami yang halus.

Baca selengkapnya mengirimkan permintaan

Baki Etsa Plasma ICP

Baki Etsa Plasma ICP Semicorex dirancang khusus untuk proses penanganan wafer suhu tinggi seperti epitaksi dan MOCVD. Dengan ketahanan oksidasi suhu tinggi yang stabil hingga 1600°C, pembawa kami memberikan profil termal yang merata, pola aliran gas laminar, dan mencegah difusi kontaminasi atau kotoran.

Baca selengkapnya mengirimkan permintaan

Sistem Etsa Plasma ICP

Pembawa SiC Coated Semicorex untuk Sistem Etsa Plasma ICP adalah solusi yang andal dan hemat biaya untuk proses penanganan wafer suhu tinggi seperti epitaksi dan MOCVD. Operator kami dilengkapi lapisan kristal SiC halus yang memberikan ketahanan panas unggul, bahkan keseragaman termal, dan ketahanan kimia yang tahan lama.

Baca selengkapnya mengirimkan permintaan

Plasma Berpasangan Induktif (ICP)

Susceptor berlapis silikon karbida Semicorex untuk Induktif-Coupled Plasma (ICP) dirancang khusus untuk proses penanganan wafer suhu tinggi seperti epitaksi dan MOCVD. Dengan ketahanan oksidasi suhu tinggi yang stabil hingga 1600°C, operator kami memastikan profil termal yang merata, pola aliran gas laminar, dan mencegah difusi kontaminasi atau kotoran.

Baca selengkapnya mengirimkan permintaan

Tempat Wafer Etsa ICP

Tempat wafer etsa ICP Semicorex adalah solusi sempurna untuk proses penanganan wafer suhu tinggi seperti epitaksi dan MOCVD. Dengan ketahanan oksidasi suhu tinggi yang stabil hingga 1600°C, operator kami memastikan profil termal yang merata, pola aliran gas laminar, dan mencegah difusi kontaminasi atau kotoran.

Baca selengkapnya mengirimkan permintaan

Pelat Pembawa Etsa ICP

Pelat Pembawa Etsa ICP Semicorex adalah solusi sempurna untuk penanganan wafer dan proses pengendapan film tipis yang menuntut. Produk kami memberikan ketahanan panas dan korosi yang unggul, bahkan keseragaman termal, dan pola aliran gas laminar. Dengan permukaan yang bersih dan halus, wadah kami sempurna untuk menangani wafer murni.

Baca selengkapnya mengirimkan permintaan

<1 2 3 4 >

Semicorex telah memproduksi Pembawa Etsa ICP selama bertahun-tahun dan merupakan salah satu produsen dan Pemasok Pembawa Etsa ICP profesional di China. Setelah Anda membeli produk kami yang canggih dan tahan lama yang memasok kemasan massal, kami menjamin jumlah besar dalam pengiriman cepat. Selama bertahun-tahun, kami telah menyediakan pelanggan dengan layanan yang disesuaikan. Pelanggan puas dengan produk kami dan layanan terbaik. Kami dengan tulus berharap untuk menjadi mitra bisnis jangka panjang Anda yang andal! Selamat datang untuk membeli produk dari pabrik kami.