Anda dapat yakin untuk membeli Pembawa Etsa ICP dari pabrik kami dan kami akan menawarkan layanan purna jual terbaik dan pengiriman tepat waktu. Susceptor wafer semicorex terbuat dari grafit berlapis silikon karbida menggunakan proses deposisi uap kimia (CVD). Bahan ini memiliki sifat unik, termasuk ketahanan terhadap suhu dan bahan kimia yang tinggi, ketahanan aus yang sangat baik, konduktivitas termal yang tinggi, serta kekuatan dan kekakuan yang tinggi. Sifat-sifat ini menjadikannya bahan yang menarik untuk berbagai aplikasi suhu tinggi, termasuk sistem Etsa Plasma Berpasangan Induktif (ICP).
Kami menyediakan layanan khusus, membantu Anda berinovasi dengan komponen yang bertahan lebih lama, mengurangi waktu siklus, dan meningkatkan hasil.
Susceptor berlapis silikon karbida Semicorex untuk Induktif-Coupled Plasma (ICP) dirancang khusus untuk proses penanganan wafer suhu tinggi seperti epitaksi dan MOCVD. Dengan ketahanan oksidasi suhu tinggi yang stabil hingga 1600°C, operator kami memastikan profil termal yang merata, pola aliran gas laminar, dan mencegah difusi kontaminasi atau kotoran.
Baca selengkapnyamengirimkan permintaanTempat wafer etsa ICP Semicorex adalah solusi sempurna untuk proses penanganan wafer suhu tinggi seperti epitaksi dan MOCVD. Dengan ketahanan oksidasi suhu tinggi yang stabil hingga 1600°C, operator kami memastikan profil termal yang merata, pola aliran gas laminar, dan mencegah difusi kontaminasi atau kotoran.
Baca selengkapnyamengirimkan permintaanPelat Pembawa Etsa ICP Semicorex adalah solusi sempurna untuk penanganan wafer dan proses pengendapan film tipis yang menuntut. Produk kami memberikan ketahanan panas dan korosi yang unggul, bahkan keseragaman termal, dan pola aliran gas laminar. Dengan permukaan yang bersih dan halus, wadah kami sempurna untuk menangani wafer murni.
Baca selengkapnyamengirimkan permintaanTempat Wafer Semicorex untuk Proses Etsa ICP adalah pilihan sempurna untuk penanganan wafer dan proses pengendapan film tipis yang menuntut. Produk kami menawarkan ketahanan panas dan korosi yang unggul, bahkan keseragaman termal, dan pola aliran gas laminar yang optimal untuk hasil yang konsisten dan andal.
Baca selengkapnyamengirimkan permintaanICP Silicon Carbon Coated Graphite dari Semicorex adalah pilihan ideal untuk penanganan wafer yang berat dan proses pengendapan film tipis. Produk kami menawarkan ketahanan panas dan korosi yang unggul, bahkan keseragaman termal, dan pola aliran gas laminar yang optimal.
Baca selengkapnyamengirimkan permintaanPilih Sistem Etsa Plasma ICP Semicorex untuk Proses PSS untuk proses epitaksi dan MOCVD berkualitas tinggi. Produk kami dirancang khusus untuk proses ini, menawarkan ketahanan panas dan korosi yang unggul. Dengan permukaan yang bersih dan halus, wadah kami sempurna untuk menangani wafer murni.
Baca selengkapnyamengirimkan permintaan