Untuk mencapai persyaratan kualitas tinggi proses rangkaian chip IC dengan lebar garis lebih kecil dari 0,13μm hingga 28nm untuk wafer pemoles silikon berdiameter 300mm, penting untuk meminimalkan kontaminasi dari kotoran, seperti ion logam, pada permukaan wafer.
Baca selengkapnyaSaat dunia mencari peluang baru di bidang semikonduktor, Gallium Nitride (GaN) terus menonjol sebagai kandidat potensial untuk aplikasi daya dan RF di masa depan. Namun, meski memiliki banyak manfaat, GaN menghadapi tantangan yang signifikan: tidak adanya produk tipe P. Mengapa GaN dipuji sebagai b......
Baca selengkapnyaPemolesan permukaan wafer silikon adalah proses penting dalam pembuatan semikonduktor. Tujuan utamanya adalah untuk mencapai standar kerataan dan kekasaran permukaan yang sangat tinggi dengan menghilangkan cacat mikro, lapisan kerusakan akibat tekanan, dan kontaminasi dari kotoran seperti ion logam.
Baca selengkapnya