Semicorex menyediakan wadah grafit berpori berkualitas tinggi dengan layanan yang disesuaikan, bahan grafit berpori kami memiliki kualitas terbaik dengan spesifikasi tinggi. Semicorex berkomitmen untuk menyediakan produk berkualitas dengan harga bersaing, kami berharap dapat menjadi mitra jangka panjang Anda di China.
Wadah grafit berpori memainkan peran penting dalam proses pertumbuhan kristal tunggal silikon karbida (SiC), sebuah langkah penting dalam pembuatan semikonduktor. Wadah khusus ini dirancang untuk tahan terhadap suhu ekstrim dan lingkungan kimia yang keras, menjadikannya wadah yang ideal untuk reaksi suhu tinggi yang terlibat dalam pertumbuhan kristal SiC.
Wadah biasanya terbuat dari bahan grafit dengan kemurnian tinggi, yang dikenal dengan konduktivitas termal yang sangat baik, kelembaman kimia, dan kekuatan mekanik. Istilah "berpori" mengacu pada penciptaan struktur permeabel yang disengaja di dalam grafit, yang memungkinkan aliran gas dan cairan terkontrol selama proses pertumbuhan kristal.
Proses pertumbuhan kristal tunggal SiC melibatkan sublimasi bahan sumber silikon dan karbon dalam tungku suhu tinggi. Wadah grafit berpori bertindak sebagai wadah untuk bahan sumber ini, menyediakan lingkungan yang stabil dan terkendali untuk terjadinya pertumbuhan kristal. Strukturnya yang berpori memungkinkan pengangkutan gas prekursor secara efisien dan memfasilitasi pembuangan produk sampingan yang dihasilkan selama proses pertumbuhan.
Kemampuan wadah untuk menjaga stabilitas dan menahan kondisi ekstrem sangat penting untuk mencapai kristal tunggal SiC berkualitas tinggi, yang merupakan bagian integral dari produksi perangkat semikonduktor. Porositas wadah membantu mengoptimalkan aliran gas dan distribusi panas, berkontribusi pada pertumbuhan seragam kristal SiC yang besar dan berkualitas tinggi.