> Produk

Produk

produk baru

View as

Baki Etsa Plasma ICP

Baki Etsa Plasma ICP Semicorex dirancang khusus untuk proses penanganan wafer suhu tinggi seperti epitaksi dan MOCVD. Dengan ketahanan oksidasi suhu tinggi yang stabil hingga 1600°C, pembawa kami memberikan profil termal yang merata, pola aliran gas laminar, dan mencegah difusi kontaminasi atau kotoran.

Baca selengkapnya mengirimkan permintaan

Sistem Etsa Plasma ICP

Pembawa SiC Coated Semicorex untuk Sistem Etsa Plasma ICP adalah solusi yang andal dan hemat biaya untuk proses penanganan wafer suhu tinggi seperti epitaksi dan MOCVD. Operator kami dilengkapi lapisan kristal SiC halus yang memberikan ketahanan panas unggul, bahkan keseragaman termal, dan ketahanan kimia yang tahan lama.

Baca selengkapnya mengirimkan permintaan

Plasma Berpasangan Induktif (ICP)

Susceptor berlapis silikon karbida Semicorex untuk Induktif-Coupled Plasma (ICP) dirancang khusus untuk proses penanganan wafer suhu tinggi seperti epitaksi dan MOCVD. Dengan ketahanan oksidasi suhu tinggi yang stabil hingga 1600°C, operator kami memastikan profil termal yang merata, pola aliran gas laminar, dan mencegah difusi kontaminasi atau kotoran.

Baca selengkapnya mengirimkan permintaan

Tempat Wafer Etsa ICP

Tempat wafer etsa ICP Semicorex adalah solusi sempurna untuk proses penanganan wafer suhu tinggi seperti epitaksi dan MOCVD. Dengan ketahanan oksidasi suhu tinggi yang stabil hingga 1600°C, operator kami memastikan profil termal yang merata, pola aliran gas laminar, dan mencegah difusi kontaminasi atau kotoran.

Baca selengkapnya mengirimkan permintaan

Pelat Pembawa Etsa ICP

Pelat Pembawa Etsa ICP Semicorex adalah solusi sempurna untuk penanganan wafer dan proses pengendapan film tipis yang menuntut. Produk kami memberikan ketahanan panas dan korosi yang unggul, bahkan keseragaman termal, dan pola aliran gas laminar. Dengan permukaan yang bersih dan halus, wadah kami sempurna untuk menangani wafer murni.

Baca selengkapnya mengirimkan permintaan

Wafer Holder untuk Proses Etching ICP

Tempat Wafer Semicorex untuk Proses Etsa ICP adalah pilihan sempurna untuk penanganan wafer dan proses pengendapan film tipis yang menuntut. Produk kami menawarkan ketahanan panas dan korosi yang unggul, bahkan keseragaman termal, dan pola aliran gas laminar yang optimal untuk hasil yang konsisten dan andal.

Baca selengkapnya mengirimkan permintaan

<...135 136 137 138 139...144 >