> Produk

Produk

produk baru

View as

Pembawa Etsa PSS Dilapisi SiC

Pembawa wafer yang digunakan dalam pertumbuhan epiksial dan pemrosesan penanganan wafer harus tahan terhadap suhu tinggi dan pembersihan kimiawi yang keras. Pembawa Etsa PSS Berlapis SiC Semicorex dirancang khusus untuk aplikasi peralatan epitaksi yang menuntut ini. Produk kami memiliki keunggulan harga yang bagus dan mencakup banyak pasar Eropa dan Amerika. Kami berharap dapat menjadi mitra jangka panjang Anda di Tiongkok.

Baca selengkapnya mengirimkan permintaan

Susceptor Barel Dilapisi SiC untuk Pertumbuhan Epitaksi LPE

Semicorex SiC Coated Barrel Susceptor untuk LPE Epitaxial Growth adalah produk berkinerja tinggi yang dirancang untuk memberikan kinerja yang konsisten dan andal dalam jangka waktu yang lama. Profil termalnya yang merata, pola aliran gas laminar, dan pencegahan kontaminasi menjadikannya pilihan ideal untuk pertumbuhan lapisan epitaksi berkualitas tinggi pada chip wafer. Kemampuan penyesuaian dan efektivitas biaya menjadikannya produk yang sangat kompetitif di pasar.

Baca selengkapnya mengirimkan permintaan

Sistem Epi Penerima Barel

Semicorex Barrel Susceptor Epi System adalah produk berkualitas tinggi yang menawarkan daya rekat lapisan unggul, kemurnian tinggi, dan ketahanan oksidasi suhu tinggi. Profil termalnya yang merata, pola aliran gas laminar, dan pencegahan kontaminasi menjadikannya pilihan ideal untuk pertumbuhan lapisan epiksial pada chip wafer. Efektivitas biaya dan kemampuan penyesuaiannya menjadikannya produk yang sangat kompetitif di pasar.

Baca selengkapnya mengirimkan permintaan

Sistem Reaktor Epitaksi Fase Cair (LPE).

Sistem Reaktor Semicorex Liquid Phase Epitaxy (LPE) adalah produk inovatif yang menawarkan kinerja termal yang sangat baik, profil termal yang merata, dan daya rekat lapisan yang unggul. Kemurniannya yang tinggi, ketahanan oksidasi suhu tinggi, dan ketahanan terhadap korosi menjadikannya pilihan ideal untuk digunakan dalam industri semikonduktor. Pilihannya yang dapat disesuaikan dan efektivitas biaya menjadikannya produk yang sangat kompetitif di pasar.

Baca selengkapnya mengirimkan permintaan

Deposisi Epitaksi CVD Dalam Reaktor Barel

Deposisi Epitaxial Semicorex CVD Dalam Reaktor Barel adalah produk yang sangat tahan lama dan andal untuk menumbuhkan lapisan epiksial pada chip wafer. Ketahanan oksidasi suhu tinggi dan kemurnian tinggi membuatnya cocok untuk digunakan dalam industri semikonduktor. Profil termalnya yang merata, pola aliran gas laminar, dan pencegahan kontaminasi menjadikannya pilihan ideal untuk pertumbuhan lapisan epiksial berkualitas tinggi.

Baca selengkapnya mengirimkan permintaan

Deposisi Epitaksi Silikon Dalam Reaktor Barel

Jika Anda memerlukan susceptor grafit berkinerja tinggi untuk digunakan dalam aplikasi manufaktur semikonduktor, Deposisi Epitaksi Silikon Semicorex Dalam Reaktor Barel adalah pilihan ideal. Lapisan SiC dengan kemurnian tinggi dan konduktivitas termal yang luar biasa memberikan sifat perlindungan dan distribusi panas yang unggul, menjadikannya pilihan tepat untuk kinerja yang andal dan konsisten bahkan di lingkungan yang paling menantang sekalipun.

Baca selengkapnya mengirimkan permintaan

<...138 139 140 141 142...144 >