Produk

View as  
 
Penerima Disk SiC

Penerima Disk SiC

Semicorex memperkenalkan SiC Disc Susceptor, yang dirancang untuk meningkatkan kinerja peralatan Epitaxy, Metal-Organic Chemical Vapor Deposition (MOCVD), dan Rapid Thermal Processing (RTP). Susceptor Cakram SiC yang dirancang dengan cermat memberikan sifat yang menjamin kinerja, daya tahan, dan efisiensi unggul dalam lingkungan bersuhu tinggi dan vakum.**

Baca selengkapnyamengirimkan permintaan
Medan Termal Grafit

Medan Termal Grafit

Semicorex Graphite Thermal Field menggabungkan ilmu material mutakhir dengan pemahaman mendalam tentang proses pertumbuhan kristal, memberikan solusi inovatif yang memberdayakan industri semikonduktor untuk mencapai tingkat kinerja, efisiensi, dan efektivitas biaya baru.**

Baca selengkapnyamengirimkan permintaan
LPE SiC-Epi Halfmoon

LPE SiC-Epi Halfmoon

Semicorex LPE SiC-Epi Halfmoon adalah aset yang sangat diperlukan dalam dunia epitaksi, memberikan solusi kuat terhadap tantangan yang ditimbulkan oleh suhu tinggi, gas reaktif, dan persyaratan kemurnian yang ketat.**

Baca selengkapnyamengirimkan permintaan
Penutup Lapisan CVD TaC

Penutup Lapisan CVD TaC

Penutup Pelapis TaC Semicorex CVD telah menjadi teknologi pendukung yang penting dalam lingkungan yang menuntut dalam reaktor epitaksi, yang dicirikan oleh suhu tinggi, gas reaktif, dan persyaratan kemurnian yang ketat, memerlukan bahan yang kuat untuk memastikan pertumbuhan kristal yang konsisten dan mencegah reaksi yang tidak diinginkan.**

Baca selengkapnyamengirimkan permintaan
Alat Penarik Silikon Tunggal Grafit

Alat Penarik Silikon Tunggal Grafit

Alat Penarik Silikon Tunggal Grafit Semicorex muncul sebagai pahlawan tanpa tanda jasa dalam wadah api tungku pertumbuhan kristal, di mana suhu melonjak dan presisi menjadi yang tertinggi. Sifatnya yang luar biasa, yang disempurnakan melalui manufaktur inovatif, menjadikannya penting untuk mewujudkan silikon kristal tunggal yang sempurna.**

Baca selengkapnyamengirimkan permintaan
Cincin Panduan Pelapisan TaC

Cincin Panduan Pelapisan TaC

Cincin Panduan Pelapisan Semicorex TaC berfungsi sebagai bagian terpenting dalam peralatan deposisi uap kimia organik-logam (MOCVD), memastikan pengiriman gas prekursor secara tepat dan stabil selama proses pertumbuhan epitaksi. Cincin Panduan Pelapisan TaC mewakili serangkaian sifat yang menjadikannya ideal untuk menahan kondisi ekstrem yang ditemukan di dalam ruang reaktor MOCVD.**

Baca selengkapnyamengirimkan permintaan
X
Kami menggunakan cookie untuk menawarkan Anda pengalaman penelusuran yang lebih baik, menganalisis lalu lintas situs, dan mempersonalisasi konten. Dengan menggunakan situs ini, Anda menyetujui penggunaan cookie kami. Kebijakan Privasi
Menolak Menerima