Komponen ICP Berlapis SiC Semicorex dirancang khusus untuk proses penanganan wafer suhu tinggi seperti epitaksi dan MOCVD. Dengan lapisan kristal SiC halus, pembawa kami memberikan ketahanan panas yang unggul, bahkan keseragaman termal, dan ketahanan kimia yang tahan lama.
Komponen ICP Berlapis SiC Semicorex adalah pilihan utama untuk proses penanganan wafer yang membutuhkan suhu tinggi dan ketahanan kimia. Pembawa kami bahkan menyediakan profil termal, pola aliran gas laminar, dan mencegah kontaminasi atau difusi kotoran berkat kristal SiC halus kami. Dengan lapisan kristal SiC halus, pembawa kami memberikan ketahanan panas yang unggul, bahkan keseragaman termal, dan ketahanan kimia yang tahan lama.
Di Semicorex, kami fokus untuk menyediakan produk berkualitas tinggi dan hemat biaya kepada pelanggan kami. Komponen ICP Berlapis SiC kami memiliki keunggulan harga dan diekspor ke banyak pasar Eropa dan Amerika. Kami bertujuan untuk menjadi mitra jangka panjang Anda, memberikan produk berkualitas yang konsisten dan layanan pelanggan yang luar biasa.
Hubungi kami hari ini untuk mempelajari lebih lanjut tentang Komponen ICP Berlapis SiC kami.
Parameter Komponen ICP yang Dilapisi SiC
Spesifikasi Utama Lapisan CVD-SIC |
||
Properti SiC-CVD |
||
Struktur kristal |
FCC β fase |
|
Kepadatan |
g/cm³ |
3.21 |
Kekerasan |
kekerasan Vickers |
2500 |
Ukuran butir |
μm |
2~10 |
Kemurnian Kimia |
% |
99.99995 |
Kapasitas Panas |
J·kg-1 ·K-1 |
640 |
Suhu Sublimasi |
℃ |
2700 |
Kekuatan Feleksural |
MPa (RT 4 titik) |
415 |
Modulus Muda |
Gpa (tikungan 4pt, 1300â) |
430 |
Ekspansi Termal (C.T.E) |
10-6K-1 |
4.5 |
Konduktivitas termal |
(W/mK) |
300 |
Fitur Komponen ICP yang Dilapisi SiC
- Hindari pengelupasan dan pastikan lapisan di semua permukaan
Ketahanan oksidasi suhu tinggi: Stabil pada suhu tinggi hingga 1600°C
Kemurnian tinggi: dibuat dengan pengendapan uap kimia CVD di bawah kondisi klorinasi suhu tinggi.
Ketahanan korosi: kekerasan tinggi, permukaan padat dan partikel halus.
Ketahanan korosi: asam, alkali, garam dan reagen organik.
- Mencapai pola aliran gas laminar terbaik
- Menjamin kemerataan profil termal
- Mencegah kontaminasi atau difusi kotoran